[发明专利]投影系统和光刻设备

权利要求书

1.一种用于光刻设备的投影系统，包括：

第一框架；

第二框架；

安装至第一框架的光学元件；

第一测量系统，配置成确定光学元件相对于第二框架的位置；和

第二测量系统，配置成测量依赖于第二框架的变形的至少一个参数。

2.如权利要求1所述的用于光刻设备的投影系统，还包括控制器，所述控制器配置成基于第一测量系统和第二测量系统的测量值控制光学元件的位置。

3.如权利要求1所述的用于光刻设备的投影系统，还包括控制器，所述控制器配置成使用第一测量系统和第二测量系统的测量值以确定光学元件相对于第二框架上的参考点的位置。

4.如权利要求3所述的用于光刻设备的投影系统，其中：

第一测量系统包括配置成确定光学元件相对于第二框架上的第一位置的位置的第一传感器；和

控制器，配置成使用来自第二测量系统的测量值确定由于第二框架的变形带来的第二框架上的第一位置相对于参考点的位置改变。

5.如权利要求3所述的用于光刻设备的投影系统，还包括：

安装至第一框架的至少第二光学元件；和

第三测量系统，配置成确定第二光学元件相对于第二框架的位置，

其中控制器配置成使用第一测量系统和第二测量系统的测量值，以确定第二光学元件相对于第二框架上的参考点的位置。

6.如权利要求1所述的用于光刻设备的投影系统，其中，所述第二测量系统配置成相对于第二框架上的至少一个其他位置测量第二框架上的至少一个位置。

7.如权利要求1所述的用于光刻设备的投影系统，其中：

第一测量系统包括第一传感器，所述第一传感器配置成确定光学元件相对于第二框架上的第一位置的位置；和

第二测量系统包括第二传感器，所述第二传感器配置成测量光学元件相对于与第二框架上的第一位置不同的第二框架上的第二位置的位置。

8.如权利要求1所述的用于光刻设备的投影系统，其中，所述第二测量系统包括配置成测量第二框架的至少一部分的应变的传感器。

9.如权利要求1所述的用于光刻设备的投影系统，还包括致动器，所述致动器配置成在光学元件和第一框架之间提供力。

10.如权利要求1所述的用于光刻设备的投影系统，还包括第三框架，其中：

所述第一框架通过至少一个弹性支撑结构安装至第三框架；和

所述第二框架通过至少一个弹性支撑结构安装至第三框架。

11.如权利要求1所述的用于光刻设备的投影系统，还包括温度控制系统，所述温度控制系统配置成驱使第二框架的温度至预定值。

12.如权利要求11所述的用于光刻设备的投影系统，其中，所述温度控制系统包括控制器，所述控制器配置成仅在投影系统没有用于曝光衬底的时候驱使第二框架的温度朝向预定值。

13.如权利要求11所述的用于光刻设备的投影系统，其中，所述温度控制系统配置成在使用时通过减小第二框架的热时间常数驱使第二框架的温度朝向预定值。

14.如权利要求13所述的用于光刻设备的投影系统，其中，所述温度控制系统配置成通过增加至第二框架的热传递速率和/或来自第二框架的热传递速率减小第二框架的热时间常数。

15.如权利要求11所述的用于光刻设备的投影系统，其中，所述温度控制系统配置成通过下面的步骤驱使第二框架的温度至预定值：

使用流体流供给热至第二框架和/或从第二框架去除热；和

使用配置成控制流体流的温度的控制器控制流体流。

16.如权利要求11所述的用于光刻设备的投影系统，其中，所述温度控制系统配置成通过下面的步骤驱使第二框架的温度至预定值：

使用气体供给单元供给气体至围绕第二框架的环境；和

使用气体供给控制单元控制供给至围绕第二框架的环境的气体的压力。

17.如权利要求11所述的用于光刻设备的投影系统，其中，所述第二框架被温度控制系统驱使达到的预定温度是投影系统用于衬底曝光时将要保持的温度。