[发明专利]纳米碳材料复合基板及其制造方法无效
申请号: | 200980138611.X | 申请日: | 2009-09-30 |
公开(公告)号: | CN102171139A | 公开(公告)日: | 2011-08-31 |
发明(设计)人: | 蒲生秀典;儿玉贤洋;田村章 | 申请(专利权)人: | 凸版印刷株式会社 |
主分类号: | C01B31/02 | 分类号: | C01B31/02 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 周欣;陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米 材料 复合 及其 制造 方法 | ||
1.一种纳米碳材料复合基板,其特征在于,具备:
基板、
形成在所述基板上的三维结构图案、和
形成在所述基板表面的纳米碳材料,
所述纳米碳材料至少存在于所述三维结构图案的侧面部。
2.根据权利要求1所述的纳米碳材料复合基板,其特征在于,所述三维结构图案为多个突起部屹立的形状,所述突起部的高度为10μm以上。
3.根据权利要求2所述的纳米碳材料复合基板,其特征在于,所述突起部的形状为选自由圆柱、圆锥台、多角柱、多角锥台、圆锥、多角锥组成的组中的任意一种形状。
4.根据权利要求1所述的纳米碳材料复合基板,其特征在于,所述纳米碳材料包含选自由碳纳米管、碳纳米纤维、碳纳米角、碳纳米丝、碳纳米墙以及碳纳米卷组成的组中的一种以上的纳米碳材料。
5.根据权利要求1~4中任意一项所述的纳米碳材料复合基板,其特征在于,所述纳米碳材料相对于基板表面垂直取向,存在于所述三维结构图案的侧面部的所述纳米碳材料的取向方向为相对于所述三维结构图案的侧面的平面垂直的方向。
6.一种纳米碳材料复合基材的制造方法,其特征在于,具有下述工序:
在基板上形成三维结构图案的工序;
使催化剂担载在所述基板的表面的工序;和
将担载有所述催化剂的所述基板浸渍在有机液体中并加热,通过固液界面接触分解法使纳米碳材料在所述突起部或槽部的表面生长的工序。
7.根据权利要求6所述的纳米碳材料复合基板的制造方法,其特征在于,通过光刻法和蚀刻在所述基板上形成所述三维结构图案。
8.根据权利要求6所述的纳米碳材料复合基板的制造方法,其特征在于,通过使用了切削刀的机械加工在所述基板上形成所述三维结构图案。
9.根据权利要求6所述的纳米碳材料复合基板的制造方法,其特征在于,所述有机液体含有甲醇,所述催化剂含有钴或其氧化物。
10.根据权利要求6~9中任意一项所述的纳米碳材料复合基板的制造方法,其特征在于,所述基板由硅形成。
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