[发明专利]低污染光学布置

权利要求书

1.一种EUV投射曝光系统(1)，包括光学布置，其中所述光学布置包括：

多个光学元件(8，8′，80，M1，M2，M3，M4)，每个所述光学元件具有包括至少一反射面的本体，从而传输将物(OF)投射至像(IF)的光束(10)，

第一部分壳体(9，9′，90)，从来自所述多个光学元件(8，8′，80，M1，M2，M3，M4)的第一光学元件(8，M1)的至少一反射面，在所述第一光学元件(8，M1)的反射面上入射和/或反射的光束(10)的方向上延伸，其中所述第一部分壳体(8，M1)的形状适配于所述光束(10)的形状并且适配于所述第一光学元件(8，M1)的形状，使得所述第一部分壳体(9，9′，90)在对应的方向或者多个方向围绕所述光束(10)，并且所述第一部分壳体(9，9′，90)围绕所述第一光学元件(8，M1)的所述至少一反射面，所述第一部分壳体(9，9′，90)和所述第一光学元件(8，M1)的本体之间具有间隙(100，G)，其中

所述第一部分壳体(9，9′，90)被构造以便通过第一安装件至少完全支撑所述第一光学元件(8，M1)。

2.根据权利要求1的EUV投射曝光系统，其中所述第一部分壳体(9，9′，90)包括形成所述光束(10)的入口和/或出口的至少一开口(71)。

3.根据前述权利要求之一的EUV投射曝光系统，其中所述第一部分壳体(9，9′，90)附加还从来自所述多个光学元件的至少一附加的第二光学元件(M2，M3，M4)的至少一反射面，在所述第二光学元件(M2，M3，M4)的反射面上入射和/或反射的所述光束(10)的第二方向上延伸，并且其中所述第一部分壳体(9，9′，90)的形状适配于所述光束(10)的形状并且适配于所述第二光学元件(M2，M3，M4)的形状，使得所述第一部分壳体(9，9′，90)也在关于所述第二光学元件(M2，M3，M4)的对应的第二方向或者多个第二方向围绕所述光束(10)，并且所述第一部分壳体(9，9′，90)围绕所述第二光学元件(M2，M3，M4)的至少一反射面，所述第一部分壳体(9，9′，90)和所述第二光学元件(M2，M3，M4)的本体之间具有间隙(100，G)。

4.根据前述权利要求之一的EUV投射曝光系统，其中所述第一安装件(82)是基于磁场或者多个磁场的无接触安装件。

5.根据权利要求1至3中任一项的EUV投射曝光系统，其中所述第一安装件(82)机械接触所述第一光学元件(8，M1)。

6.根据前述权利要求之一的EUV投射曝光系统，其中所述部分壳体(9，90)包括至少一驱动器(160)，用于所述第一光学元件(8，M1)在至少一自由度中的驱动和/或所述第一光学元件(8，M1)的变形。

7.根据权利要求6的EUV投射曝光系统，其中所述至少一驱动器(160)选自由磁驱动单元、线性电动机、洛伦兹驱动器所构成的组，驱动器类型基于压电、磁致伸缩或者静电效应。

8.根据权利要求6或者7的EUV投射曝光系统，其中所述驱动器(160)被布置于所述部分壳体(9，9’，90)的外表面上，不围绕所述第一部分壳体(9，9’，90)的光束(10)。

9.根据前述权利要求之一的EUV投射曝光系统，其中所述第一光学元件(8，M1)的本体的表面的至少25％是在由所述第一部分壳体(9，9′，90)、所述第一光学元件(8，M1)的至少一反射面和所述第一部分壳体(9，9′，90)与所述第一光学元件(8，M1)的本体之间的间隙(100，G)所界定的体积之外。

10.根据前述权利要求之一的EUV投射曝光系统，其中所述第一部分壳体(9，9′，90)具有最低的机械振动的本征频率，频带选自由(50至100)Hz、(100至150)Hz、(100至200)Hz、(100至300)Hz、(200至400)Hz或者(200至500)Hz构成的组。

11.根据前述权利要求之一的EUV投射曝光系统，还包括测量结构(11，110)，与所述第一部分壳体(9，9′，90)机械解耦或者与所述第一部分壳体(9，9′，90)机械和热解耦。