[发明专利]微流体装置有效

专利信息
申请号: 200980139442.1 申请日: 2009-10-01
公开(公告)号: CN102170971A 公开(公告)日: 2011-08-31
发明(设计)人: M·W·J·普林斯;P·J·范德扎格;R·C·登杜尔克 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00;B01J19/00;C12M1/12
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 流体 装置
【权利要求书】:

1.一种微流体装置,包括:

多个腔室(3,4,5,6),其适于执行化学、生化或物理过程;

连接所述多个腔室(3,4,5,6)的流动路径(9),其适于容纳依次移动通过所述多个腔室的至少一个磁颗粒(7);

所述多个腔室(3,4,5,6)由至少一个阀状结构(10)分开,所述阀状结构(10)适于让所述至少一个磁颗粒(7)从所述多个腔室之一通过并到达所述多个腔室中的另一个;以及

至少一个延迟结构(11,111),其适于延迟所述至少一个磁颗粒(7)沿所述流动路径的移动。

2.根据权利要求1所述的微流体装置,其中,所述延迟结构(11,111)适于通过施加磁场延迟所述至少一个磁颗粒(7)的移动。

3.根据权利要求1或2所述的微流体装置,其中,所述延迟结构(11,111)适于以受控方式停止所述至少一个磁颗粒(7)的移动并再次可控地释放所述至少一个磁颗粒(7)。

4.根据权利要求3所述的微流体装置,其中,所述延迟结构(11,111)适于通过改变磁场执行停止和释放。

5.根据权利要求1到4中的任一项所述的微流体装置,其中,所述延迟结构(11,111)包括几何结构(11,111)并适于通过施加磁场(H)使所述至少一个磁颗粒(7)克服所述几何结构的阻挡移动。

6.根据权利要求1到5中的任一项所述的微流体装置,其中,所述至少一个延迟结构(11,111)与所述阀状结构(10)分开形成。

7.根据权利要求1到6中的任一项所述的微流体装置,其中,阀状结构(10)均提供在所述多个腔室(3,4,5,6)中相对于所述流动路径相邻的腔室之间。

8.根据权利要求1到7中的任一项所述的微流体装置,其中,所述微流体装置包括磁场产生单元(8),所述磁场产生单元适于借助于磁场使所述至少一个磁颗粒(7)移动通过所述多个腔室(3,4,5,6)。

9.根据权利要求8所述的微流体装置,其中,所述磁场产生单元(8)适于施加用于延迟所述至少一个颗粒(7)的所述磁场。

10.根据权利要求1到9中的任一项所述的微流体装置,其中,构造所述装置,从而使得从所述多个腔室的第一个(3)到所述多个腔室的后续第二个(4)的移动方向处于第一方向,而从所述多个腔室的第二个(4)到所述多个腔室的后续第三个(5)的移动方向处于第二方向,所述第一方向与所述第二方向是不同的。

11.根据权利要求1到10中的任一项所述的微流体装置,其中,所述微流体装置包括多个处理模块(2a,2b,2c,...),每个处理模块包括多个腔室(3,4,5,6)和连接相应多个腔室的相应流动路径,所述流动路径适于容纳同时移动通过相应多个腔室的磁颗粒(7)。

12.根据权利要求11所述的微流体装置,其中,为所述多个处理模块(2a,2b,2c,...)提供公共磁场产生单元(8)。

13.根据权利要求11或12所述的微流体装置,其中,所述处理模块是相同的。

14.根据权利要求1到13中的任一项所述的微流体装置,其中,所述多个腔室的个体腔室(3,4,5,6)适于执行多种不同的化学或生化过程。

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