[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法

权利要求书

1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，具备使用固定磨粒将主表面为镜面的镜面板玻璃加工为必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，其特征在于，具备在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，将所述镜面板玻璃表面通过磨砂加工进行表面粗糙化的表面粗糙化工序。

2.权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在表面粗糙化工序中所使用的处理液的pH为4.0～7.0，且包含浓度4.0M～8.0M的氢氟酸以及缓冲剂。

3.权利要求2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述处理液作为腐蚀反应促进剂含有氟离子供给剂。

4.权利要求3所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述氟离子供给剂选自NH₄F、NaF、KF及CaF₂。

5.权利要求2～4任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述缓冲剂选自KOH、NaOH及NH₄F。

6.权利要求5所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述缓冲剂为KOH的情况下，优选所述处理液的pH为4.0～7.0。

7.权利要求5所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述缓冲剂为NaOH的情况下，所述处理液的pH为4.5～7.0。

8.权利要求1～7任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述表面粗糙化工序将镜面的表面粗糙度Ra为0.01μm以下的镜面板玻璃进行表面粗糙化，使表面粗糙度Ra为2.0μm～10.0μm。

9.权利要求1～8任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在使用所述固定磨粒的表面研磨工序中，加工至表面粗糙度Ra为0.01μm以下，且平坦度为6.0μm以下。

10.权利要求1～9任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，具备在所述表面粗糙化工序前，对所述镜面板玻璃表面进行前洗涤的前洗涤工序。

11.权利要求10所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述前洗涤在使所述磨砂加工后的所述镜面板玻璃的板厚偏差成为10μm以下的条件下进行。

12.权利要求10或11所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述前洗涤通过化学溶液洗涤及/或擦洗洗涤来进行。

13.权利要求12所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述化学溶液洗涤使用选自酸、碱及表面活性剂的至少两种来进行。