[发明专利]基板清洗装置及其方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种清洗分别位于玻璃基板等基板的侧缘部的表侧及背侧的清洗面的基板清洗装置及其方法，所述玻璃基板等例如在液晶显示装置及等离子显示装置中使用。

背景技术

以往，在玻璃基板的制造中，如图13所示，在形成于玻璃基板51的侧缘部的多个电极52上安装有各种构件54。首先，如图13(a)所示，清洗分别位于配置有电极52的玻璃基板51的侧缘部的表侧和背侧的清洗面(需要清洗的面)。然后，如图13(b)所示，在电极52上贴附各向异性导电膜(ACF)53。并且，如图13(c)所示，隔着各向异性导电膜53向电极52热压接构件54。

清洗基板的侧缘部的清洗面的基板清洗装置在专利文献1中被公开。所公开的基板清洗装置在通过按压构件将布制的清洗带按压到基板的侧缘部上的状态下，使基板沿其侧缘部的长度方向移动。由此，基板的侧缘部的清洗面由清洗带清洗。

参照图14说明所公开的基板清洗装置的结构。该基板清洗装置具有：使基板61移动的基板移动装置62、清洗基板61的清洗装置63。基板移动装置62从下方支承基板61的中央部分。此外，基板移动装置62使基板61沿其侧缘部的长度方向移动。相对于清洗装置63的清洗部64，基板61通过基板移动装置62被定位在与该基板61的侧缘部的长度方向正交的方向上。清洗装置63在其清洗部64上具有分别配置在基板61的侧缘部的表侧和背侧的按压构件65a、65b。所述按压构件65a、65b向基板61的侧缘部的表侧和背侧按压清洗带66。清洗带66在基板61的侧缘部被清洗前由引导辊68从供给卷盘67a(67b)引导而朝向按压构件65a(65b)与基板61的侧缘部之间移动规定的输送量。在清洗带66移动前，向通过清洗带66的移动而在按压构件65a(65b)与基板61的侧缘部之间移动的清洗带66的部分喷出清洗剂。完成清洗的清洗带66的部分通过引导辊68引导并最终卷取到回收辊69a(69b)。此外，基板清洗装置根据传感器70检测的清洗带66的表面的颜色确认向清洗带66喷出了适量的清洗剂。

然而，该基板清洗装置对基板61的侧缘部的表侧和背侧各自的清洗面各使用一个清洗带66。因此，清洗带的带路径设有两个，从而使基板清洗装置大型化。此外，仅清洗带66的一侧的拂拭面用于清洗。因此，对基板的侧缘部清洗的成本高。

在专利文献2中公开了能够解决该问题的基板清洗装置。该基板清洗装置通过清洗带的一侧的拂拭面清洗基板的侧缘部的表侧的清洗面，通过另一侧的拂拭面清洗该侧缘部的背侧的清洗面。为了实现上述功能，在从表侧的清洗面至背侧的清洗面的中途使清洗带扭转180度。

在专利文献3中公开了与此不同的使清洗带扭转180度的基板清洗装置。该基板清洗装置将基板的表侧或背侧的任一侧的清洗面清洗两次。第一次的清洗通过清洗带的一侧的拂拭面执行，第二次的清洗通过另一侧的拂拭面执行。因此，清洗带被扭转了180度。

【专利文献1】日本专利第3503512号公报

【专利文献2】日本专利第4114416号公报

【专利文献3】日本国际公开2006/106803号小册子

然而，在专利文献2或专利文献3中公开的基板清洗装置中，清洗带扭转了180度。因此，存在清洗带上产生扭痕、扭转的状态的清洗带可能没有适当地清洗清洗面的问题。即，存在发生清洗不良的可能性。若发生清洗不良的情况，则基板的侧缘部的清洗成本当然变高。

另外，可以考虑在不扭转清洗带的情况下通过一个清洗带的仅一侧的拂拭面清洗基板的侧缘部的表侧及背侧各自的清洗面。然而，这种情况下，清洗带的消耗量增加，即清洗带的更换频率增加，其结果是，清洗成本变高。

因此，为了解决上述问题，本发明的目的在于，在不将清洗带扭转180度的情况下通过在清洗中使用该清洗带的两个拂拭面来适当地清洗分别基板的侧缘部的位于表侧和背侧的清洗面，且抑制其清洗成本。

此外，近年来，液晶显示装置及等离子显示装置大型化，因此玻璃基板大型化。在处理大型的玻璃基板的情况下，需要利用使玻璃基板沿其侧缘部的长度方向移动的大型的装置，因此，使清洗带移动这种方法能够降低清洗成本因而优选。

为此，需要准备下述装置，该装置中，清洗带、将清洗带按压到基板上的按压构件及清洗带的输送装置等作为一个单元构成，该装置使该单元沿基板的侧缘部的长度方向移动。此时，该单元特别是为了降低清洗成本，具体而言为了缩短清洗时间，以例如300～500mm/s的速度移动，为此其优选紧凑地构成。这是因为，若单元的尺寸大，则单元的起动、加速、减速及停止需要大的能量。