[发明专利]收集器组件、辐射源、光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种用于光刻设备的收集器组件，所述收集器组件包括：

第一收集器反射镜，具有第一焦点和第二焦点，所述第二焦点与所述第一焦点相比更加远离所述第一收集器反射镜，所述第一和第二焦点限定了光轴，且限定了分别通过所述第一和第二焦点的第一和第二焦平面，且每一焦平面垂直于所述光轴，其中所述第一收集器反射镜被布置以收集直接来自定位在所述第一焦点的辐射发射点的第一辐射且朝向所述第二焦点反射所述第一辐射；

第二收集器反射镜，定位在所述第一和第二焦平面之间，且布置成收集直接来自所述辐射发射点的第二辐射；和

第三反射镜，定位成基本上在所述第一焦平面和第二收集器反射镜之间的光轴上，

其中，所述第二收集器反射镜布置成将所述第二辐射反射到所述第三反射镜上，所述第三反射镜布置成将所述第二辐射反射至所述第二焦点，其中所述第二收集器反射镜布置成基本上不阻挡从所述第三反射镜反射至所述第二焦点的所述第二辐射，或从所述第一收集器反射镜反射至所述第二焦点的所述第一辐射。

2.根据权利要求1所述的收集器组件，其中所述第二收集器反射镜是环形的凹反射镜，所述凹反射镜布置成围绕所述光轴且基本上成圆对称。

3.根据权利要求2所述的收集器组件，其中所述第三反射镜是凸反射镜。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的收集器组件，其中从所述第一收集器反射镜、所述第二收集器反射镜或所述第三反射镜选出的所述反射镜中的一个或更多个是硅/钼多层反射镜。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的收集器组件，其中所述第一收集器反射镜设置有孔阑，所述孔阑布置成引导激光束通过所述孔阑到所述辐射发射点上。

6.根据权利要求5所述的收集器组件，还包括束阻挡件，所述束阻挡件定位成在使用中基本上阻挡激光束直接穿过到所述第二焦点。

7.根据权利要求6所述的收集器组件，其中所述第三反射镜定位在所述束阻挡件处。

8.一种辐射源，所述辐射源包括权利要求1-4中任一项所述的收集器组件，其中所述辐射发射点是极紫外辐射发生器的辐射发射点。

9.根据权利要求8所述的辐射源，其中所述极紫外辐射发生器是激光产生等离子体辐射发生器。

10.根据权利要求9所述的辐射源，包括激光器，所述激光器布置成引导激光束通过所述第一收集器反射镜中的孔阑到达所述辐射发射点上。

11.根据权利要求10所述的辐射源，其中所述激光器布置成基本上沿着所述光轴引导所述激光束，其中所述收集器组件包括束阻挡件，所述束阻挡件定位成基本上阻挡所述激光束直接穿过到所述第二焦点。

12.根据权利要求11所述的辐射源，其中所述第三反射镜定位在所述束阻挡件处。

13.一种光刻设备，所述光刻设备包括根据权利要求8-12中任一项所述的辐射源或根据权利要求1-7中任一项所述的收集器组件。

14.一种器件制造方法，所述方法包括：将图案化的辐射束投影到衬底上，其中所述辐射由根据权利要求8-12中任一项所述的辐射源提供。