[发明专利]X射线成像装置和X射线成像方法有效

专利信息
申请号: 200980141289.6 申请日: 2009-10-19
公开(公告)号: CN102187207A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 向出大平;高田一广;福田一德;渡边壮俊 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 罗银燕
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 射线 成像 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种X射线成像装置,用于获得关于由被检体导致的X射线的相位偏移的信息,所述X射线成像装置包括:

分离元件,用于将从X射线产生器单元发射的X射线在空间上分离成X射线束;

衰减器单元,具有用于接收被分离元件分离的X射线束的衰减元件的布置;以及

强度检测器单元,用于检测被衰减器单元衰减的X射线束的强度;并且

衰减元件依赖于衰减元件上的X射线入射位置连续改变X射线的透射量。

2.根据权利要求1的X射线成像装置,其中,所述装置具有:计算单元,用于从由强度检测器单元检测到的X射线强度信息计算被检体的微分相位衬度图像或相位衬度图像。

3.根据权利要求1或2的X射线成像装置,其中,衰减元件具有在与入射的X射线垂直的方向上连续改变的厚度。

4.根据权利要求3的X射线成像装置,其中,衰减元件具有三角棱柱的形状。

5.根据权利要求1或2的X射线成像装置,其中,衰减元件具有在与入射的X射线垂直的方向上连续变化的密度。

6.根据权利要求1至3中任一项的X射线成像装置,其中,衰减元件具有使衰减元件中的光路长度对于X射线入射位置的二阶微分值为正的形状。

7.根据权利要求1至6中任一项的X射线成像装置,其中,所述装置具有:移动机构,用于同步移动X射线产生器单元、分离元件、衰减器单元和强度检测器单元。

8.一种用X射线成像装置进行X射线成像的方法,包括:

在空间上分离X射线;以及

通过使用具有衰减元件的布置的衰减器单元,从已透射通过衰减元件的X射线的强度收集关于由被检体导致的X射线相位偏移的信息;并且

衰减元件对应于所述元件中的X射线入射位置连续改变X射线的透射量。

9.一种X射线成像装置,包括:

X射线产生器单元,用于产生X射线;

衰减器单元,具有多个衰减元件的布置,所述多个衰减元件各具有根据已透射通过被检体的X射线的强度分布来连续改变X射线的透射量的吸收能力梯度;以及

X射线强度检测器,用于检测已被衰减器单元衰减的X射线的强度。

10.一种用X射线成像装置进行X射线成像的方法,所述方法采用具有多个衰减元件的布置的衰减器单元来检测通过衰减元件的X射线的强度分布的变化,所述多个衰减元件各具有根据已透射通过被检体的X射线的强度分布来连续改变X射线的透射量的吸收能力梯度。

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