[发明专利]制造光波导

权利要求书

1.一种形成波导的方法，其包含：

将波导特征的轮廓按压到第一层中；

将所述第一层粘贴到具有比所述第一层低的折射率的第二层；以及

使用具有比所述第一层低的折射率的第三层包覆所述波导特征。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述按压包含压印。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述按压包含冲压。

4.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的方法，其中将所述按压、粘贴或包覆中的至少一者作为卷到卷工艺的部分来执行。

5.根据权利要求1到4中任一权利要求所述的方法，其中所述粘贴包含使用压敏粘合剂将所述第一层粘贴到所述第二层。

6.根据权利要求1到5中任一权利要求所述的方法，其进一步包含在所述包覆之前移除所述第一层的至少一些的工艺。

7.一种根据权利要求1到6中任一权利要求所述的方法形成的波导。

8.根据权利要求5所述的方法，其中所述压敏粘合剂具有比所述第一层的折射率低的折射率。

9.根据权利要求6所述的方法，其中所述移除工艺包含等离子体灰化工艺或溶剂处理中的至少一者。

10.根据权利要求6所述的方法，其中在所述移除工艺期间不保护所述波导特征。

11.一种形成波导的方法，其包含：

将波导特征的轮廓按压到第一层中；

在所述第一层上形成第二层；

在所述第二层上溅镀不连续的第三层，所述第三层具有比所述第二层高的折射率；以及

在所述第三层上形成第四层，所述第四层具有比所述第三层低的折射率。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述形成包含溅镀。

13.根据权利要求11或权利要求12所述的方法，其中所述形成包含旋涂、化学气相沉积或原子层沉积中的至少一者。

14.根据权利要求11到13中任一权利要求所述的方法，其中所述按压包含压印或冲压。

15.根据权利要求11到14中任一权利要求所述的方法，其中将所述按压、形成或溅镀中的至少一者作为卷到卷工艺的部分来执行。

16.根据权利要求11到15中任一权利要求所述的方法，其进一步包含在形成所述第四层之前移除所述第二层或所述第三层的至少一些的工艺。

17.一种根据权利要求11到16中任一权利要求所述的方法形成的波导。

18.根据权利要求16所述的方法，其中所述移除工艺包含等离子体灰化工艺或溶剂处理中的至少一者。

19.根据权利要求16所述的方法，其中在所述移除工艺期间不保护所述波导特征。

20.一种形成波导的方法，其包含：

将波导特征的轮廓按压到第一层中；

在所述第一层上溅镀第二层，所述第二层具有比所述第一层高的折射率；以及

在所述第二层上形成第三层，所述第三层具有比所述第二层低的折射率。

21.根据权利要求20所述的方法，其中所述形成包含溅镀。

22.根据权利要求20或权利要求21所述的方法，其进一步包含在形成所述第三层之前移除所述第二层的至少一些的工艺。

23.一种根据权利要求20到22中任一权利要求所述的方法形成的波导。

24.根据权利要求22所述的方法，其中所述移除工艺包含等离子体灰化或溶剂处理。

25.根据权利要求22所述的方法，其中在所述移除工艺期间不保护所述波导特征。

26.一种用于制造波导的系统，其包含：

压印设备，其经配置以用于将波导特征的轮廓按压到第一层中；

第一沉积设备，其经配置以在所述第一层上形成第二层；

溅镀设备，其经配置以在所述第二层上溅镀第三层，所述第三层具有比所述第二层高的折射率；以及

第二沉积设备，其经配置以在所述第三层上形成第四层，所述第四层具有比所述第三层低的折射率。