[发明专利]真空处理装置

权利要求书

1.一种用于真空处理物品的装置，其包括：

通道，用于在环境压力下在装载区接收至少一个载体，载体具有至少一个密封装置，至少一个密封装置在使用时定义一个中间空腔，中间空腔中收容有一个或多个用于处理的物品；

定义于通道中的处理区，处理区的压力低于或高于环境压力；

用于使载体沿着通道从装载区向处理区和出口区移动的装置；以及

至少一个泵或压差装置，其在使用时与通道连通，可降低或增加位于装载区和处理区之间的通道中的载体的内部压力，增加或降低位于处理区和出口区之间的通道中的载体的内部压力。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：通道的横截面与载体的横截面相适配。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于：密封装置由围绕载体的第一端和第二端延伸的可变形法兰部形成，使用时，法兰两侧形成压差。

4.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于：密封装置由围绕载体的第一端和第二端延伸的气动U型、T型或V型密封形成，使用时，法兰两侧形成压差。

5.根据权利要求3所述的装置，其特征在于：密封装置呈圆盘形，以与具有圆形横截面的通道相适配。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：密封装置包括位于两个平面圆盘之间的柔性材料，柔性材料的环面外露。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：密封装置包括与聚四氟乙烯等含氟聚合物或二氧化钼混合或层压的柔性材料，以减小密封装置和内壁之间的摩擦，且在使用时维持气密密封或接近气密密封。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于：密封装置通过一个柔性惰性盖体与处理环境隔离，以通过密封材料减少处理污染，且在使用时允许密封装置维持气密密封或接近气密密封。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的装置，其特征在于：通道的内壁光滑且经抛光。

10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于：内壁上涂覆有聚四氟乙烯，以减少密封装置和内壁之间的摩擦，且在使用时维持气密密封或接近气密密封。

11.一种用于真空处理物品的装置，其包括：

处理区，物品可在处理区中在处理压力下被真空处理；

装载区，物品可在装载区中在环境压力下装入装置中；

若干个载体，用于将物品从装载区沿着封闭的通道转移到处理区，以对物品进行真空处理；

其中，载体设有在载体沿着通道转移物品时密封通道内表面的密封装置，密封装置阻止气体或蒸汽从装载区沿着通道流向处理区并通过密封装置，以使得在环境压力下在装载区装载并被转移到处理区的物品可以在处理压力下进行真空处理。

12.根据权利要求11所述的装置，其特征在于：进一步包括驱动载体沿着通道移动的传动装置。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的装置，其特征在于：阀门间隔分布在通道的内壁上并与泵连接，以降低由载体的密封装置和通道的内壁定义的空腔中的压力。

14.根据权利要求13所述的装置，其特征在于：阀门间隔分布在通道的内壁上，并根据控制信号开启和关闭。

15.根据权利要求14所述的装置，其特征在于：进一步包括控制装置，以同时驱动泵和/或阀门与转移载体的装置，当一个或多个载体从第一位置转移到第二位置时，泵和/或阀门通电，以至少维持载体内的位置(由通道内壁和载体的密封装置之间的空间定义)相对于载体外的位置的压差。

16.根据权利要求1至15中任一项所述的装置，其特征在于：处理区为等离子处理区。

17.根据权利要求1至14中任一项所述的装置，其特征在于：处理区为真空沉积区。

18.根据权利要求1至14中任一项所述的装置，其特征在于：处理区为干燥区。

19.根据权利要求1至14中任一项所述的装置，其特征在于：处理区包括注入干燥区。

20.根据权利要求1至14中任一项所述的装置，其特征在于：处理区为冷冻干燥区。