[发明专利]多处气体馈送装置与方法

权利要求书

1.一种处理设备，其包含：

喷气头；

背板，其与所述喷气头相邻，使得气室形成在所述背板与所述喷气头之间；

第一气源，其与穿过所述背板的中央区形成的开口流体连通；以及

第二气源，其与穿过所述背板的角落区形成的开口流体连通。

2.根据权利要求1所述的处理设备，还包含第一质流控制器，其与所述第一气源流体连通，以控制通过所述穿过背板的中央区所形成的开口的气流，其中，所述第二气源与穿过所述背板的每一角落区形成的开口流体连通。

3.根据权利要求2所述的处理设备，还包含第二质流控制器，其与所述第二气源流体连通，以控制通过所述穿过背板的每一角落区所形成的开口的气流。

4.根据权利要求2所述的处理设备，还包含复数个第二质流控制器，其中，每一第二质流控制器与所述第二气源流体连通。

5.根据权利要求2所述的处理设备，还包含阻障件，其设置在所述气室的中央区以及所述气室的每一角落区之间，其中，每一阻障件贴附至所述背板。

6.一种处理设备，其包含：

喷气头；

背板，其与所述喷气头相邻，使得气室形成在所述背板与所述喷气头之间，其中，所述气室包含中央区以及复数个角落区，并且其中，阻障件设置在所述气室的中央区以及所述气室的每一角落区之间；

第一气源，其与所述气室的中央区流体连通；

第一质流控制器，其与所述第一气源以及所述气室的中央区流体连通；

第二气源，其与所述气室的至少一个角落区流体连通；以及

第二质流控制器，其与所述第二气源以及所述气室的至少一个角落区流体连通。

7.根据权利要求6所述的处理设备，还包含复数个质流控制器，其中，所述气室的每一角落区具有与之流体连通的第二质流控制器。

8.根据权利要求6所述的处理设备，还包含复数个第二气源，其中，所述气室的每一角落区具有与之连通的第二气源。

9.根据权利要求8所述的处理设备，还包含复数个质流控制器，其中，所述气室的每一角落区具有与之流体连通的第二质流控制器。

10.一种处理设备，其包含：

喷气头；

背板，其与所述喷气头并列，使得气室形成在所述背板与所述喷气头之间；

阻障件，其贴附至所述背板，并设置在所述气室的中央区以及所述气室的每一角落区之间；

气源，其与所述气室的中央区以及角落区流体连通；

第一质流控制器，其与所述气源以及所述气室的中央区流体连通；以及

第二质流控制器，其与所述气源以及所述气室的角落区的至少一者流体连通。

11.根据权利要求10所述的处理设备，其中，所述第二质流控制器与所述气室的角落区中的每一者流体连通。

12.根据权利要求10项所述的处理设备，还包含复数个第二质流控制器，其中，所述气室的每一角落区与所述第二质流控制器中的一者流体连通。

13.一种用于沉积薄膜的方法，其包含：

将第一气体混合物导入气室的中央区中，所述气室形成在处理设备的背板以及处理设备的喷气头之间；

将第二气体混合物导入所述气室的角落区中；以及

在扩散通过所述喷气头前，实质上防止所述第一气体混合物与所述第二气体混合物混合。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述第二气体混合物导入所述气室的每一角落区中。

15.根据权利要求13所述的方法，还包含将第三气体混合物导入所述气室的第二角落区中。