[发明专利]压印工艺的分离阶段中的应变和动力学控制

权利要求书

1.一种对衬底布图的方法，包括：

使所述衬底的应变特性与模板匹配，所述模板具有第一凸凹图案；

将与所述模板上的第一凸凹图案对应的第二凸凹图案转印至所述衬底，所述转印包括在所述衬底和模板之间的可塑液体中形成第二凸凹图案，所述第二凸凹图案对应于所述模板上的第一凸凹图案，所述可塑液体形成沉积在所述衬底上的固化层；以及

将所述模板从所述固化层分离。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述衬底是压印光刻衬底，并且所述匹配包括使所述衬底的硬度顺应于所述模板的硬度。

3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述匹配包括使所述衬底的厚度顺应于所述模板的厚度。

4.如权利要求1、2或3所述的方法，其特征在于，还包括在所述模板和所述衬底之间涂覆过剩的可塑液体，所述过剩的可塑液体形成残留层，

其中所述匹配包括通过改变所述残留层的厚度来匹配应变特性。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述匹配包括通过将所述残留层的厚度增加一预定量而匹配所述应变特性。

6.如权利要求1、2、3、4或5所述的方法，其特征在于，还包括在转印前对所述衬底的表面施加预定厚度的硬化层。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述硬化层是玻璃上旋涂(SOG)层。

8.如权利要求1、2、3、4、5、6或7所述的方法，其特征在于，所述分离包括在所述模板从所述固化层分离的同时修改作用于所述模板和/或所述衬底中的至少一个的力。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述修改包括改变作用于所述衬底的压力和/或真空力，以在所述模板从所述固化层分离的同时使所述衬底的应变特性保持恒定。

10.如权利要求8或9所述的方法，其特征在于，所述修改包括基于所述第一凸凹图案的特征密度来改变作用于所述模板和/或衬底中的至少一个的压力和/或真空力。

11.如权利要求8、9或10所述的方法，其特征在于，所述修改包括：

将作用于所述模板和/或所述衬底中的至少一个的压力和/或真空力增加至预定峰值量级；以及

当检测到最初分离时，将作用于所述模板和/或所述衬底中的至少一个的压力和/或真空力减小至预定的最小量级。

12.如权利要求8、9、10或11所述的方法，其特征在于，所述修改包括修改作用于所述模板和/或所述衬底中的至少一个的力以使所述模板与所述固化层的分离以预定加速度率发生。

13.如权利要求12所述的方法，其特征在于，所述修改包括修改作用于所述模板和/或所述衬底中的至少一个的力以使所述模板与所述固化层的分离以恒速发生。

14.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述修改包括：

将预定压力作用于所述模板；

作用一分离力，所述分离力配置成使所述模板与所述固化层的分离开始，所述分离力保持恒定并垂直于所述固化层；以及

减小施加于所述模板的预定压力。

15.如权利要求8或14所述的方法，其特征在于，所述修改包括：

作用一分离力，所述分离力配置成使所述模板与所述固化层的分离开始，所述分离力保持恒定并垂直于所述固化层；以及

一旦分离已开始，则将真空施加于所述模板和/或所述衬底中的至少一个。

16.如权利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14或15所述的方法，其特征在于，所述分离包括：

在所述模板与所述固化层分离的同时监视作用于所述模板和/或所述衬底中的至少一个的力；

分析所述衬底的应变特性；

基于所述分析提供反馈；

基于所接收到的反馈自动调整作用于所述模板和/或所述衬底中的至少一个的力。

17.如权利要求16所述的方法，其特征在于，所述监视是通过配置成获得处于各个离散波长的实时图像的超光谱成像系统来实现的。