[发明专利]双栅极场效应晶体管和生产双栅极场效应晶体管的方法无效

专利信息
申请号: 200980143216.0 申请日: 2009-10-26
公开(公告)号: CN102203974A 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: D·M·德里兀;P·A·范哈尔;G·T·霍夫特 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈松涛;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 栅极 场效应 晶体管 生产 方法
【权利要求书】:

1.一种双栅极场效应晶体管(1),包括第一和第二电介质层(6,7)、第一和第二栅电极(9,11)以及由至少一个源电极(3),至少一个漏电极(4)和至少一个有机半导体(5)构成的组件(2),其中

-所述源电极(3)和所述漏电极(4)与所述半导体(5)接触,

-所述组件(2)位于所述第一电介质层(6)和所述第二电介质层(7)之间,

-所述第一电介质层(6)位于所述第一栅电极(9)和所述组件(2)的第一侧(8)之间,并且

-所述第二电介质层(7)位于所述第二栅电极(11)和所述组件(2)的第二侧(10)之间,

其特征在于所述有机半导体(5)是有机双极性传导半导体(12),其在所述组件(2)的第一侧(8)实现至少一个电子注入区域(18)并在所述组件(2)的第二侧(19)实现至少一个空穴注入区域(18)。

2.根据权利要求1所述的场效应晶体管(1),其中所述有机双极性传导半导体(12)为有机双极性传导半导体膜(13)。

3.根据权利要求2所述的场效应晶体管(1),其中所述有机双极性传导半导体膜(13)包括适于实现电子沟道的第一分层区域(15)以及用于实现空穴沟道的第二分层区域(16)。

4.根据权利要求2所述的场效应晶体管(1),其中所述有机双极性传导半导体膜(13)包括适于实现电子沟道的第一层以及用于实现空穴沟道的第二层。

5.根据权利要求2所述的场效应晶体管(1),其中所述有机半导体膜(13)的厚度低于20nm,优选低于10nm。

6.根据权利要求2所述的场效应晶体管(1),其中所述有机双极性传导半导体膜(13)是有机半导体单层或者包括有机半导体单层。

7.根据权利要求6所述的场效应晶体管(1),其中所述有机半导体单层是自组装半导体单层(14)。

8.根据权利要求1所述的场效应晶体管(1),其中所述第一电介质层(6)和/或所述第二电介质层(7)是有机铁电层。

9.根据权利要求1所述的场效应晶体管(1),其中所述晶体管(1)还包括至少一个透射窗口,该透射窗口使得能够从所述双极性传导半导体(12)发射光。

10.一种光发射装置(20),尤其是激光装置,包括至少一个根据权利要求1到9中的任一项所述的场效应晶体管(1)。

11.一种传感器系统,包括至少一个根据权利要求1到8中的任一项所述的场效应晶体管(1)。

12.一种存储装置,包括至少一个根据权利要求1到8中的任一项所述的场效应晶体管(1)。

13.一种生产双栅极场效应晶体管(1)的方法,包括如下步骤:

-向栅电极(9,11)的表面施加电介质层(6,7);

-利用至少一个光刻掩模向所述电介质层(6,7)施加源电极(3)和漏电极(4);

-激活至少所述源电极(3)和所述漏电极(4)之间的有源区中的电介质层(6,7);

-利用半导体分子溶液润湿电介质层(6,7)、栅电极(9,11)、源电极(3)和漏电极(4)的集合体,以在所述有源区中形成自组装半导体单层(14);

-向所述自组装半导体单层(14)施加另一电介质层(7,6);以及

-向所述另一电介质层(7,6)施加另一栅电极(11,9)。

14.根据权利要求13所述的方法,其中优选通过氧等离子体处理、继之以酸水解来激活所述有源区中的电介质层(6,7)的表面。

15.根据权利要求13或14所述的方法,其中通过将所述集合体浸入所述半导体分子溶液中进行对所述集合体的润湿。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司,未经皇家飞利浦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980143216.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top