[发明专利]金属纳米线薄膜

权利要求书

1.一种用于在基板的表面上制备纳米线膜的方法，所述方法包括：

(a)获得包含至少一种金属前体、至少一种表面活性剂和至少一种金属还原剂的水性前体溶液，其中所述至少一种表面活性剂在所述溶液中的浓度为至少5％(重量/重量)；

(b)在基板的至少部分表面上形成所述前体溶液的薄膜；和

(c)在所述薄膜中形成所述纳米线；

由此在所述表面的至少一部分上获得纳米线膜。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述水性前体溶液是选自乳状液和分散液的均质溶液。

3.如权利要求1所述的方法，其中，所述水性前体溶液处于高于室温的温度。

4.如权利要求3所述的方法，其中，所述温度为25℃～100℃。

5.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括以紫外线照射基板的至少部分表面上的所述前体溶液的所述薄膜。

6.如权利要求1所述的方法，其中，所述水性前体溶液通过下述方法制备：首先于允许溶解的温度形成至少一种第一金属前体和至少一种表面活性剂的溶液，然后添加至少一种金属还原剂和/或至少一种第二金属前体。

7.如权利要求6所述的方法，其中，所述至少一种第二金属前体不同于所述至少一种第一金属前体。

8.如权利要求6所述的方法，其中，所述水性前体溶液通过下述方法制备：首先于允许溶解的温度形成至少一种金属前体、至少一种表面活性剂和至少一种金属还原剂的溶液，然后添加至少一种第二金属前体。

9.如权利要求6所述的方法，其中，所述水性前体溶液通过下述方法制备：首先于允许溶解的温度形成至少一种第一金属前体、至少一种表面活性剂和至少一种第二金属前体及至少一种还原剂的溶液，然后添加至少一种第二还原剂。

10.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述至少一种金属前体是金属离子的形式或是在反应条件下离解为金属离子的形式。

11.如权利要求1所述的方法，其中，所述至少一种金属前体是单一的金属前体，或者是相同或不同金属的两种以上金属前体的组合。

12.如权利要求6所述的方法，其中，所述至少一种金属前体选自金金属前体、银金前体、钯金属前体、铜金属前体、镍金属前体和铂金属前体。

13.如权利要求12所述的方法，其中，所述至少一种金属前体选自HAuCl₄；AgNO₃；(NH₄)₂PdCl₆；Cu(NO₃)₂；NiCl₂；和H₂PtCl₆。

14.如权利要求12所述的方法，其中，所述至少一种金属前体是至少一种金金属前体。

15.如权利要求7所述的方法，其中，所述至少一种金属前体是金金属前体。

16.如权利要求7所述的方法，其中，所述至少一种第二金属前体是银金属前体。

17.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述至少一种金属前体的总浓度为至少约1mM。

18.如权利要求1所述的方法，其中，所述至少一种表面活性剂是至少一种阳离子表面活性剂。

19.如权利要求18所述的方法，其中，所述至少一种阳离子表面活性剂包含至少一个季铵基团。

20.如权利要求19所述的方法，其中，所述至少一个季铵基团具有至少一个碳原子数为10以上的烷基链。

21.如权利要求19所述的方法，其中，所述至少一种表面活性剂选自十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)、二(十二烷基)二甲基溴化铵、十四烷基三甲基溴化铵、二癸基二甲基溴化铵，其中，溴反荷离子能够选择性地以氯离子或碘离子代替。

22.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中，至少一种表面活性剂的浓度高于10％(重量/重量)。

23.如权利要求1所述的方法，其中，所述表面活性剂的浓度为7.5％～21％。