[发明专利]即需即用间歇高净水生产系统

说明书

对相关申请和优先权权利要求的交叉引用

本发明根据35 USC§119（e）要求在2008年10月31日提交的名称为“USE AND PLACEMENT OF A STORAGE TANK FOR INSTANT PRODUCTION OF PURIFIED WATER(用于净化水即时生产的储罐的使用和安置)”的待决美国临时专利申请No. 61/110125的权益，在此通过引用将所述申请的全文并入本文。

技术领域

本发明涉及一种高净水生产系统，更具体地涉及用于生产高净水的系统和过程，使得净化的水被即需即用地供应到用户，而同时所述系统被冲洗以去除可能在储存或停工时段过程中形成的污染物。

背景技术

许多工业和实验室应用中需要高净水。一些这种应用在新泽西州的John Wiley & Sons的Norman Li等人在“先进膜技术和应用（Advanced membranes Technology and Applications）”中第13章的“由膜获得的超净水（Ultrapure Water by Membranes）”中可见。半导体、医药和电力产业需要高净水，有时被称为超净水。在半导体领域中，ASTM D-5217-99：超净水标准指南（Standard Guide for Ultra Pure Water）描述了六种类型的电子等级水。对三种类型的要求作为示例在下表中给出：

参数类型E-1类型E-1.1类型E-1.225℃时的电阻率18.218.218.2TOC（ppb）521溶解氧（ppb）111离子和金属（ppt）10010050

在医药产业中，高净水或药物水是最终药品使用的水或注射用水（WFI）。在此，RO/CEDI一前一后用作整个过程的一部分。典型的医药要求是：导电性（25℃）小于1.3微西门子/厘米，TOC小于500 ppb。

在电力产业中，RO/CEDI用于去除硅土和有机杂质以及共离子。硅土可在高压锅炉中挥发并沉淀在较低压力的涡轮中的叶片上。有机质可在蒸汽生成步骤中分解而形成腐蚀性CO₂和有机酸。典型的要求是：导电性（25℃）小于0.1微西门子/厘米，硅土少于5-10 ppb，TOC小于100 ppb。

许多产业具有其本身的高净水定义。显然，高净水的基本需要是：25℃的导电性为10-15微欧/厘米，和TOC小于100 ppb。

反渗透（RO）和连续电去离子（CEDI）的组合是用于生产超净水的整体方法中处理步骤的优选组合。RO用作CEDI的预处理。CEDI要求小的残量并可去除最多至99％的弱离子化硅土和硼，并由此减少对CEDI下游的处理步骤的负载。