[发明专利]用于控制还原剂到SCR系统的供给的方法与装置有效

专利信息
申请号: 200980143756.9 申请日: 2009-08-31
公开(公告)号: CN102202769A 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: M·拉松 申请(专利权)人: 阿尔斯托姆科技有限公司
主分类号: B01D53/86 分类号: B01D53/86;B01D53/90;F23J15/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 严志军;曹若
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要:
搜索关键词: 用于 控制 还原剂 scr 系统 供给 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种控制还原剂(例如尿素或氨)到选择性催化还原反应器(8)的进给的方法,所述选择性催化还原反应器(8)包括至少一个催化剂层(14),并且所述选择性催化还原反应器(8)可操作用于从工艺装置(1)(例如燃烧装置或焚化装置)的工艺气流中去除NOx,所述至少一个催化剂层(14)具有面对所述工艺气流(P)的处理区(A),所述方法其特征在于:

在对应于一部分所述处理区(A)的至少一个供给区(34)中,将至少一部分所述还原剂供给到所述至少一个催化剂层(14),以及

在所述处理区(A)上方移动所述供给区(34)。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,当所述供给区(34)在所述处理区(A)上方移动时,基于指示所述处理区(A)上不同点处NOx浓度的NOx分布,来改变供给到所述供给区(34)的还原剂的量。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,基于在所述催化剂层(14)上游和/或下游进行的NOx测量,而定期更新所述NOx分布。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,当所述供给区(34)在所述处理区(A)上方移动时,基于指示所述催化剂层(14)下游不同点处的所述还原剂浓度的还原剂脱逸分布,来改变供给到所述供给区(34)的还原剂的量。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括,经由固定的还原剂供给装置(250)供给所述还原剂的第一部分,并且在所述处理区(A)上方移动的所述至少一个供给区(234)中供给所述还原剂的第二部分。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述第一部分对应于供给到所述至少一个催化剂层(14)的还原剂的总量的60-95%,所述第二部分对应于所述总量的5-40%。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述供给区(34)对应于所述处理区(A)的1-25%。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述供给区(34)以这样的方式(M)在所述处理区(A)上方移动,使得在移动所述供给区(34)的一个循环中,将所述供给区(34)扫描过基本上整个所述处理区(A)。

9.一种用于控制还原剂(例如尿素或氨)到选择性催化还原反应器(8)的进给的装置,所述选择性催化还原反应器(8)包括至少一个催化剂层(14),并且所述选择性催化还原反应器(8)可操作用于从工艺装置(1)(例如燃烧装置或焚化装置)的工艺气流中去除NOx,所述至少一个催化剂层(14)具有面对所述工艺气流(P)的处理区(A),其特征在于,所述装置包括:

至少一个供给喷嘴(32),其可操作用于在对应于一部分所述处理区(A)的至少一个供给区(34)中供给还原剂,和

移动装置(36),其可操作用于在所述处理区(A)上方移动所述供给区(34)。

10.根据权利要求9所述的装置,其特征在于,所述装置还包括固定的还原剂供给栅格(250),所述固定的还原剂供给栅格(250)可操作用于在分布于所述处理区(A)上方的许多个点(252)将所述还原剂的第一部分供给到所述至少一个催化剂层(214),所述至少一个供给喷嘴(232)可操作用于在所述供给区(234)中将所述还原剂的第二部分供给到所述至少一个催化剂层(214)。

11.根据权利要求9-10中任一项所述的装置,其特征在于,所述装置还包括控制装置(24,26;226),所述控制装置(24,26;226)可操作用于当所述供给区(34;234)在所述处理区(A)上方移动时,基于指示所述处理区(A)上不同点处NOx浓度的NOx分布,来控制由所述至少一个供给喷嘴(32;232)供给的所述还原剂的量,以及用于改变供给到所述供给区(34;234)的还原剂的量。

12.根据权利要求9-11中任一项所述的装置,其特征在于,所述装置还包括至少一个NOx测量栅格(136,142)以及控制装置(24,26),所述NOx测量栅格(136,142)可操作用于测量所述工艺气流(P)的NOx浓度分布,所述控制装置(24,26)可操作用于接收来自所述NOx测量栅格(136,142)的数据,并且用于当所述供给区(134)在所述处理区(A)上方移动时,基于所述NOx浓度分布来控制由所述至少一个供给喷嘴(132)供给的还原剂的量。

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