[发明专利]受控的机架不平衡

权利要求书

1.一种成像系统，包括：

静止框架(104)；

能绕枢轴转动的框架(106)，其能绕枢轴转动地附接到所述静止框架(104)并被配置成关于横轴(108)绕枢轴转动；

旋转框架(110)，其由所述能绕枢轴转动的框架(106)旋转地支撑并被配置成关于纵轴(114)绕检查区域(112)旋转；

旋转框架平衡器(118)，其被配置成有选择地引入旋转框架质量不平衡；

辐射源(116)，其固定到所述旋转框架(110)并从焦斑发射辐射，其中，所述辐射贯穿所述检查区域(112)；以及

探测器阵列(128)，其探测贯穿所述检查区域(112)的辐射并生成指示所述辐射的信号。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述不平衡导致所述能绕枢轴转动的框架(106)在所述旋转框架(110)绕所述纵轴(114)旋转的同时关于所述横轴(108)来回绕枢轴转动。

3.根据权利要求2所述的系统，其中，绕枢轴转动的旋转框架(110)沿所述纵轴(114)来回平移所述焦斑。

4.根据权利要求2所述的系统，其中，绕枢轴转动的旋转框架(110)沿预期的扫描轨线移动所述焦斑。

5.根据权利要求4所述的系统，其中，所述扫描轨线为鞍形轨线。

6.根据权利要求1-5中的任一项所述的系统，其中，所述旋转框架平衡器(118)包括被配置成沿所述纵轴(114)平移的能移动的质量块(206)。

7.根据权利要求6所述的系统，其中，所述旋转框架平衡器(118)还包括：

轴承(202)，其固定到所述旋转框架(110)；

电动机(204)，其使所述轴承(202)致动；以及

控制器(122)，其控制所述电动机(204)，其中，所述能移动的质量块(206)固定到所述轴承(202)，并且所述控制器(122)提供使所述电动机(204)致动以移动所述轴承(202)的控制信号，从而移动所述能移动的质量块(206)。

8.根据权利要求7所述的系统，还包括：

对抗质量块(124)，其位于所述旋转框架(110)上，在所述旋转框架平衡器(118)对面，所述检查区域(112)的对侧。

9.根据权利要求1-8中的任一项所述的系统，其中，所述旋转框架平衡器(118)从所述辐射源(116)角偏移角度α(702)。

10.根据权利要求9所述的系统，其中，所述角度α(702)至少确定所述焦斑沿z轴(114)的最大位移。

11.根据权利要求9所述的系统，其中，所述角度α(702)是成像规程的函数。

12.根据权利要求1-10中的任一项所述的系统，还包括阻尼器(126)，其对所述能绕枢轴转动的框架(106)的绕枢轴的转动进行阻尼。

13.根据权利要求1-12中的任一项所述的系统，其中，所述旋转框架平衡器(118)在所述旋转框架(110)旋转的同时改变所述质量不平衡。

14.一种方法，包括有选择地生成旋转框架(110)质量不平衡，其中，所述旋转框架(110)是成像系统(100)的一部分并且支撑所述成像系统(100)的辐射源(116)。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述质量不平衡限定所述辐射源(116)的焦斑的焦斑轨线。

16.根据权利要求14到15中的任一项所述的方法，其中，生成所述旋转框架(110)质量不平衡包括沿纵轴(114)有选择地移动能移动地固定到所述旋转框架(110)的质量块(206)。

17.根据权利要求14到16中的任一项所述的方法，其中，所述不平衡导致所述旋转框架(110)关于枢轴(108)转动。

18.根据权利要求17所述的方法，其中，绕枢轴转动的所述旋转框架(110)周期性地来回平移所述焦斑。