[发明专利]散射仪和光刻设备

权利要求书

1.一种散射仪，配置成测量衬底的性质，所述散射仪包括：

聚焦布置；

聚焦传感器；

聚焦控制器，响应于所述聚焦传感器以提供有效地引起致动器布置调整所述聚焦布置和衬底的相对位置的控制信号，其中需要所述相对位置以在调整过程期间聚焦辐射束；和

焦距偏离布置，适于提供偏离给聚焦布置产生的焦距，以补偿在所述调整过程期间所述散射仪的聚焦和在使用散射仪期间所述散射仪的聚焦之间的差异。

2.如权利要求1所述的散射仪，包括：

有效地引导辐射束通过所述聚焦布置到所述衬底上的布置；

其中所述聚焦传感器适于在所述辐射束从所述衬底反射之后检测所述辐射束；和

所述焦距偏离布置适于提供偏离给聚焦布置产生的焦距，以补偿所述辐射束的聚焦和使用散射仪期间所述散射仪的聚焦之间的差异。

3.如权利要求2所述的散射仪，其中，所述焦距偏离布置包括：

有效地改变所述焦距感测布置和所述测量检测器布置中的至少一个内的光学路径长度的布置。

4.如权利要求2所述的散射仪，其中，有效地改变所述光学路径长度的布置包括：

透镜布置，所述透镜布置插入在所述聚焦布置和所述衬底之间；和

致动器布置，有效地移动所述透镜布置、以便改变所述辐射束在所述衬底处反射之后被聚焦所在的位置。

5.如权利要求4所述的散射仪，其中，相同的致动器布置被布置成移动所述透镜布置和所述聚焦布置。

6.如权利要求4所述的散射仪，其中，提供不同的对应的致动器，以便移动所述透镜布置和所述聚焦布置。

7.如权利要求1所述的散射仪，其中，所述焦距偏离布置包括：

依赖于所述偏离、有效地改变所述控制信号的布置。

8.如权利要求1所述的散射仪，其中，所述聚焦传感器是电容传感器。

9.一种使用散射仪测量衬底的性质的散射测量方法，包括步骤：

调整过程，包括步骤：

确定聚焦辐射束所需的所述聚焦布置和所述衬底的相对位置；

提供表示所述聚焦布置和所述衬底的所述相对位置的控制信号；和

依赖于所述控制信号调整所述聚焦布置和所述衬底的所述相对位置以引起所述聚焦；和

提供偏离给由聚焦布置产生的焦距，以补偿所述调整过程期间所述散射仪的聚焦和使用散射仪期间所述散射仪的聚焦之间的差异。

10.根据权利要求9所述的方法，包括步骤：

引导辐射束通过所述聚焦布置到所述衬底上；

在所述辐射束从所述衬底反射之后检测所述辐射束；和

提供偏离给由聚焦布置产生的焦距，以补偿所述辐射束的聚焦和使用散射仪期间所述散射仪的聚焦之间的差异。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，提供焦距偏离的步骤包括：

改变用于执行所述焦距感测的布置和用于执行所述测量检测的布置中的至少一个布置内的光学路径长度。

12.根据权利要求10所述的方法，其中，提供焦距偏离的步骤包括：

依赖于所述偏离改变所述控制信号。

13.根据权利要求10所述的方法，其中，在所述散射测量步骤之前首先执行所述聚焦步骤，以提供用于随后的散射测量步骤中的所述偏离的值。

14.一种光刻设备，包括：

照射光学系统，布置用以照射图案；

投影光学系统，布置用于将图案的图像投影至衬底上；和

根据权利要求1所述的散射仪。

15.一种光刻单元，包括：

涂覆器，布置用以用辐射敏感层涂覆衬底；

光刻设备，布置用以将图像曝光到衬底的通过涂覆器涂覆的辐射敏感层上；

显影器，布置用以将光刻设备曝光的图像显影；和

根据权利要求1所述的散射仪。

16.一种器件制造方法，包括步骤：

使用光刻设备以在衬底上形成图案；和

使用散射仪确定与通过所述光刻设备印刷的图案的参数有关的值，包括：

调整过程，包括步骤：

确定聚焦辐射束所需的所述聚焦布置和所述衬底的相对位置；

提供表示所述聚焦布置和所述衬底的所述相对位置的控制信号；和

依赖于所述控制信号调整所述聚焦布置和所述衬底的所述相对位置以引起所述聚焦；和

提供偏离给由聚焦布置产生的焦距，以补偿所述调整过程期间所述散射仪的聚焦和使用散射仪期间所述散射仪的聚焦之间的差异。