[发明专利]用于碱性蚀刻溶液尤其是纹理蚀刻溶液的添加剂及其制备方法

权利要求书

1.一种产品(64)，该产品可利用以下处理获得：

把至少一种聚乙二醇与一种碱混合，

使该混合物(52)在空气环境中和大约25℃的温度下静置，直到形成两相(56，58)，

分离(16)较低浓度的相(56)，该较低浓度的相代表了产品。

2.根据权利要求1所述的产品，其特征在于使用氢氧化碱作为碱，优选地是使用氢氧化钠或氢氧化钾。

3.根据权利要求前述任何一项权利要求的产品，其特征在于使用四乙二醇作为至少一种聚乙二醇。

4.根据权利要求前述任何一项权利要求的产品，其特征在于使所述较低浓度的相(56)在空气环境条件下被静置，直到所述较低浓度的相变色，优选地是变色为一种橙色。

5.根据权利要求前述任何一项权利要求的产品，其特征在于使所述水被混合到该混合物中。

6.根据权利要求前述任何一项权利要求的产品，其特征在于在把乙醇且优选地是异丙醇、水和氢氧化碱且优选地是氢氧化钠或氢氧化钾混合到该较低浓度的分离相中。

7.根据权利要求前述任何一项权利要求的产品，其特征在于该分离相的体积百分比是0.01～5％，优选地是0.01～1％，且特别优选地是0.07～0.3％。

8.根据权利要求前述任何一项权利要求的产品作为半导体材料的碱性蚀刻溶液的添加物的应用，所述碱性蚀刻溶液优选地是用于无机半导体材料的碱性蚀刻溶液。

9.根据权利要求6或7项所述的产品作为半导体材料的纹理蚀刻溶液的应用，所述半导体材料优选地是无机半导体材料，且特别优选地是硅材料。

10.根据权利要求1至7之一所述的产品的制造方法，其中

把至少一种聚乙二醇与一种碱混合而，且

在该混合物(52；53)中形成了两相(56，58)后，把代表所述产品的较低浓度的相分离。

11.根据权利要求10的方法，其特征在于用氢氧化碱作为碱，所述氢氧化碱优选地是使用氢氧化钠或氢氧化钾。

12.根据权利要求10或11的方法，其特征在于用四乙二醇作为至少一种聚乙二醇。

13.根据权利要求10至12之一的方法，其特征在于等待该较低浓度的相的变色，优选地是变色为一种橙色。

14.根据权利要求10至13之一的方法，其特征在于在形成所述两相(56，58)之前，所述混合物被置于20℃至100℃的温度，优选地是60℃至100℃的温度，且特别优选地是75℃至85℃的温度。

15.根据权利要求10至14之一的方法，其特征在于水被混合(20)至该混合物(53)中。