[发明专利]光调制器

说明书

技术领域

本发明涉及一种包括极化合成单元的光调制器。

本申请要求基于2008年12月26日在日本申请的特愿2008-335097号的优先权，将其内容援用于此。

背景技术

近年来，随着高速、大容量光纤通信系统的进步，以外部调制器为代表的利用了波导型光学元件的高速光调制器被实用化，并被广泛应用。

例如，将LiNbO₃(铌酸锂，也简称为LN)等具有电气光学效果的材料用于基板的波导型光学元件，可通过电压变化产生折射率变化，因此用于光调制器(一般也称为LN光调制器)、光开关。

光纤通信系统的高速化最近实用化到10Gb/s至40Gb/s，进一步正面向100Gb/s的应对而进行开发。作为在LN光调制器中实现100Gb/s的方法，如图5所示提出了以下方案：使用四个光调制器901～904分别进行25Gb/s的调制，分别合成光调制器901和光调制器902的输出、及光调制器903和光调制器904的输出，获得50Gb/s的调制光，进一步将这两个50Gb/s的调制光在通过极化波旋转单元905使相对的极化波面的角度差为90度的状态下进行合成，从而获得极化合成了50Gb/s的调制光而成的100Gb/s的调制光(例如参照专利文献1)。该方法具有作为调制电路可使用和25Gb/s对应的电路的优点，因此较为优选。

专利文献1：特开2004-253931号公报

发明内容

其中，在图5的LN光调制器中，在极化合成部906中为了合成不同的极化波的光，例如需要通过使波导为非对称X型构造，来配合极化波间的传送速度和芯径。但是，非对称X型的波导的设计复杂，且其制造需要高精度的制造技术，因此存在批量生产时生产率低的问题。

本发明鉴于以上问题而出现，其目的在于，在包括极化合成单元的光调制器、光学装置中，提高制造的生产率。

本发明为解决上述课题而出现，提供一种光调制器，其特征在于具有：形成于基板上的第1及第2光调制部；极化波旋转部，使基于上述第1及第2光调制器的调制光的至少一个的极化波旋转；以及极化合成部，设置于上述基板的外部，且具有将通过上述极化波旋转部旋转了极化波的调制光极化合成的极化合成元件。

并且在本发明中，在上述光调制器中优选：上述极化合成部具有聚光部，上述聚光部使上述调制光聚光到输出波导。

并且在本发明中，在上述光调制器中优选：上述极化合成部具有光学元件，上述光学元件具有负色散特性。

并且在本发明中，在上述光调制器中优选：上述极化合成部具有配置了两个相对准直器系统的光学系统。相对准直器光学系统也可使用V槽块。

并且在本发明中，在上述光调制器中优选：上述两个相对准直器系统由光纤准直器构成。一般情况下，光纤准直器是光纤和准直器透镜一体的构造，但在本发明中，优选使用光纤直径和透镜直径相等的透镜光纤。

并且在本发明中，在上述光调制器中优选：上述光纤准直器在入射基于上述第1及第2光调制器的调制光的部分使用双孔插芯，在入射上述极化合成元件的输出光的部分使用单孔插芯。也可在插芯(ferrule)内内置透镜光纤而形成光纤准直器。通过该构成，可使光调制器小型化。

并且在本发明中，在上述光调制器中优选：使用上述单孔插芯的光纤准直器配置成，其入射位置成为由于上述极化合成元件的输出光的极化而不同的位置偏差的大致中心位置。通过该构成，当波长变化时，不同极化波下的入射位置的位置偏差而产生的极化波间的输出差较小，因此可补偿波长分散。

并且在本发明中，在上述光调制器中优选：上述极化合成元件是萨瓦尔板。通过该构成，可使光调制器小型化。

并且在本发明中，在上述光调制器中优选：上述萨瓦尔板构成为补偿极化合成的两个极化波的光路差。此外，也可是如下构成：使用萨瓦尔板以外的极化合成元件，补偿在两个极化波之间产生的光路差。

根据本发明，在包括极化合成元件的光调制器中，可有效提高制造生产率。

附图说明

图1是表示本发明的第1实施方式下的光调制器的构成的俯视图。

图2是说明极化合成的两个光的出射位置的波长及极化波依存性的图。

图3是表示本发明的第2实施方式下的光调制器的构成的俯视图。

图4是表示本发明的第3实施方式下的光调制器的构成的俯视图。

图5是表示现有的光调制器的构成的俯视图。

图6是表示本发明的第1实施方式下的光调制器的极化波依存损失的图。

标记的说明

1、2、3光调制器