[发明专利]无尘室中逆转溅镀涂覆系统进料的方法及装置

权利要求书

1.一种逆转溅镀涂覆系统进料的装置，以用于重复地在无尘室中供应具有不同、或相同成分的溅镀材料，该装置包括下列特征：

a)运输框架(11)，用以接收一基板晶圆(19)；

b)旋转单元，具有旋转所述运输框架(11)的装置，以及具有将所述运输框架(11)运输至不同导轨(25、27)上的装置；

c)用以精准地使所述旋转单元对准所述溅镀涂覆系统的装置；

d)侦测单元(18)，用以检查一溅镀程序；

e)用以设置矩形运输框架(11)的装置，所述矩形运输框架(11)由在左边以及右边的上部区域中的后端固定圆柱(13)以及前端固定圆柱(14)、以及在左边以及右边的下部区域中二运输滚筒(7)上的拖架所组成，其中，每一个滚筒(7)皆具备专属伺服马达，以及机械移动部件以无发射方式包裹，且由抗磨损材质制成。

2.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，

用于旋转所述运输框架(11)的装置由伺服马达(17)组成，连结侦测转动角度的传感器(16)。

3.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，

用于运输所述运输框架(11)的装置由下部区域中配备有规则间隔运输滚筒(7)的导轨(25，27)组成，其中，在上部区域中以规则间隔安装的固定圆柱(13，14)利用所述运输滚筒(7)提供引导。

4.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，

用于精准地将所述旋转单元对准分别的所述导轨的装置是以多个传感器(23，24)所决定的测量数值作为基础而受控于所述旋转单元的驱动(17)的一精准调整，其中，所述传感器(23，24)额外地侦测所述导轨(25)路径的热变形。

5.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，

所述基板晶圆(19)的定位额外地利用激光及/或相对应的传感器的方式进行监测。

6.一种逆转溅镀涂覆系统进料的方法，以用于重复地在无尘室中供应具有不同、或相同成分的溅镀材料，所述方法包括下列特征：

a)待涂覆基板晶圆(19)利用一运输装置运送进入运输框架(11)，以及接着进入旋转单元；

b)矩形运输框架(11)通过位在上部区域中左边以及右边的二个固定圆柱(13，14)，以及在下部区域中左边以及右边的运输滚筒(7)上的拖架而设置于所述旋转单元中；

c)所述运输框架(11)透过合并于所述旋转单元的所述框架中的驱动(17)的方式而进行旋转；

d)所述运输框架(11)透过可在不同方向的多个导轨上引导的运输滚筒驱动(9)的方式而进行运输；

e)经由所述旋转单元的所述驱动(17)，所述旋转单元透过所述传感器(23，24)的方式而精准地对准所述导轨(25，27)；以及

f)溅镀程序，利用侦测单元(18)的方式进行检查，其中，此至少存在于运输框架(11)的每一个储藏所的所述旋转单元中，以及间隔组件可以扫瞄器的方式操作、或可以利用光技术检查基板晶圆(19)的整体面积。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，

所述基板晶圆(19)的定位额外地利用激光及/或相对应的传感器的方式进行监测。

8.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，

为了获得无尘室条件，机械移动部件以无发射方式包裹以及由抗磨损材料制成。

9.根据权利要求6至8中任一项所述的方法，其特征在于，

所述旋转单元，作为较大系统的部分，举例而言，在光伏模块的涂覆中，额外地作为众多另外处理顺序的连结站。

10.一种计算机程序，包括若其于计算机中执行时，实现权利要求6至9中任一项所述的方法步骤的程序代码。

11.一种机器可读取载体，包括计算机程序的程序代码，以在所述程序若于计算机中执行时，实现权利要求6至9中任一项所述方法。