[发明专利]植被生长状况分析方法、记录有程序的记录介质和植被生长状况分析器有效

专利信息
申请号: 200980145743.5 申请日: 2009-11-13
公开(公告)号: CN102215666A 公开(公告)日: 2011-10-12
发明(设计)人: 力丸厚;高桥一义;岛村秀树 申请(专利权)人: 株式会社博思科;国立大学法人长冈技术科学大学
主分类号: A01G7/00 分类号: A01G7/00;G01S7/40;G01S13/90;G06T1/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 植被 生长 状况 分析 方法 记录 程序 介质 分析器
【权利要求书】:

1.一种植被生长状况分析方法,包括以下步骤:

获取步骤,获取通过搭载在飞行体上的雷达装置在一年内多个时间拍摄的同一目标区域的地表的雷达图像;

存储步骤,将在所述获取步骤获取到的多个雷达图像存储在地图数据库内;

配准步骤,在使用存储在所述地图数据库内的多个雷达图像中的、在一年内所述多个时间中的指定时间拍摄的雷达图像作为基准图像的情况下,使所述多个雷达图像中除所述基准图像以外的、在一年内所述多个时间中除所述指定时间以外的其它时间拍摄的其它雷达图像分别与所述基准图像配准;

提取步骤,提取所述多个雷达图像中的指定区域的后向散射系数;

校准步骤,基于存储在所述地图数据库内的多个雷达图像的基准图像中的指定区域的后向散射系数,对所述多个雷达图像中除所述基准图像以外的其它雷达图像的后向散射系数进行校准;以及

生长值计算步骤,基于雷达图像的后向散射系数与雷达图像示出的植被生长值之间的相互关系,根据所述多个雷达图像中除所述基准图像以外的、在所述校准步骤校准了后向散射系数的其它雷达图像的校准后的后向散射系数,来计算所述其它雷达图像示出的植被生长值。

2.根据权利要求1所述的植被生长状况分析方法,其特征在于,所述校准步骤包括:

校准线计算步骤,基于存储在所述地图数据库内的多个雷达图像的基准图像中的指定区域的后向散射系数以及所述多个雷达图像中除所述基准图像以外的其它雷达图像中的指定区域的后向散射系数,来计算用于对所述多个雷达图像中除所述基准图像以外的其它雷达图像的后向散射系数进行校准的校准线,其中,所述多个雷达图像中的其它雷达图像中的指定区域分别与所述基准图像中的指定区域相对应;以及

基于在所述校准线计算步骤计算出的校准线,对所述多个雷达图像中除所述基准图像以外的其它雷达图像的后向散射系数进行校准。

3.根据权利要求2所述的植被生长状况分析方法,其特征在于,

在所述提取步骤中,提取所述多个雷达图像中的低变动区域的后向散射系数,其中,所述低变动区域中的后向散射系数根据一年内时间的变动相对小;以及

在所述校准线计算步骤中,根据所述基准图像中的低变动区域的后向散射系数和所述多个雷达图像中除所述基准图像以外的其它雷达图像中的低变动区域的后向散射系数来计算所述校准线,其中,所述多个雷达图像中的其它雷达图像中的低变动区域分别与所述基准图像中的低变动区域相对应。

4.根据权利要求2所述的植被生长状况分析方法,其特征在于,

在所述目标区域的地表上的指定位置设置基准反射板,

在所述提取步骤中,提取所述多个雷达图像中的基准反射板的后向散射系数;以及

在所述校准线计算步骤中,根据所述基准图像中的基准反射板的后向散射系数和所述多个雷达图像中除所述基准图像以外的其它雷达图像中的基准反射板的后向散射系数来计算所述校准线,其中,所述多个雷达图像中的其它雷达图像中的基准反射板分别与所述基准图像中的基准反射板相对应。

5.根据权利要求2所述的植被生长状况分析方法,其特征在于,

在所述校准线计算步骤中,根据所述基准图像中的低变动区域的后向散射系数和所述多个雷达图像中除所述基准图像以外的其它雷达图像中的低变动区域的后向散射系数、并根据所述基准图像中的基准反射板的后向散射系数和所述多个雷达图像中除所述基准图像以外的其它雷达图像中的基准反射板的后向散射系数来计算所述校准线,其中,所述多个雷达图像中的其它雷达图像中的低变动区域分别与所述基准图像中的低变动区域相对应,所述多个雷达图像中的其它雷达图像中的基准反射板分别与所述基准图像中的基准反射板相对应。

6.根据权利要求1~5中的任一项所述的植被生长状况分析方法,其特征在于,所述指定时间是所述多个时间中的第一个时间。

7.根据权利要求4或5所述的植被生长状况分析方法,其特征在于,还包括以下步骤:

判断在所述提取步骤提取的所述多个雷达图像中的基准反射板的后向散射系数是否处于饱和状态,并且当所述后向散射系数处于饱和状态时,判断为在所述校准线计算步骤中不使用所述后向散射系数来计算所述校准线。

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