[发明专利]表膜用膜、与TFT液晶面板制造用掩模一起使用的表膜、及包含该表膜的光掩模

权利要求书

1.一种表膜用膜，其在70℃下72小时的换算成每微米膜厚的草酸透过量为1.0×10^-3mg/cm²以下，主要膜材料为光学用有机高分子。

2.一种表膜用膜，其在25℃下的氨透过系数为8.0×10^-9cm³·μm/cm²·s·Pa以下，主要膜材料为光学用有机高分子。

3.根据权利要求2所述的表膜用膜，其在70℃下72小时的换算成每微米膜厚的草酸透过量为1.0×10^-3mg/cm²以下。

4.一种表膜用膜，其中，主要膜材料为光学用有机高分子，该膜材料中含有相对于该光学用有机高分子的总重量为0.1重量％以上且15重量％以下的光稳定剂。

5.根据权利要求4所述的表膜用膜，其中，所述光学用有机高分子为环烯烃系树脂或纤维素衍生物。

6.根据权利要求4或5所述的表膜用膜，其中，所述光稳定剂为受阻胺系光稳定剂。

7.一种表膜，其具有：框体、在该框体的上边缘表面侧的权利要求1～6中任一项所述的表膜用膜、和在该框体的下边缘表面侧的粘合材料层。

8.根据权利要求7所述的表膜，其与TFT液晶面板制造用光掩模一起使用。

9.一种表膜用膜的制造方法，其包括以下工序：在有机溶剂中溶解光学用有机高分子和光稳定剂，从而制作聚合物溶液的工序；以及从该聚合物溶液除去有机溶剂的工序。

10.根据权利要求9所述的表膜用膜的制造方法，其中，所述有机溶剂为脂环式烃、氯系烃、酯系化合物或酮系化合物。

11.根据权利要求9或10所述的表膜用膜的制造方法，其中，所述光稳定剂为受阻胺系光稳定剂。

12.根据权利要求11所述的表膜用膜的制造方法，其中，所述受阻胺系光稳定剂在25℃下呈液态。

13.根据权利要求9～12中任一项所述的表膜用膜的制造方法，所述光学用有机高分子为环烯烃树脂或纤维素衍生物。

14.一种液晶显示装置制造用光掩模，其在透明基板的表面具有对含铬的遮光性膜进行图案化而成的转印图案，并且，在该透明基板的具有转印图案一侧的表面安装有表膜，

该透明基板具有1000cm²以上的面积，

该表膜的表膜用膜的膜厚为0.5μm以上且8μm以下，并且，在温度70℃的气氛中放置了72小时的该表膜用膜的换算成每微米膜厚的草酸透过量为1.0×10^-3mg/cm²以下。

15.根据权利要求14所述的光掩模，其中，所述遮光性膜的转印图案通过溅射法而成膜于所述透明基板上、并具有通过蚀刻而图案化的图案剖面。

16.一种图案转印方法，通过在温度15℃以上的气氛中对权利要求14或15所述的光掩模照射包含i射线～g射线的波长范围的曝光光，从而将所述转印图案转印到被转印体上。

17.一种TFT液晶面板的制造方法，其包括以下工序：准备权利要求14或15所述的光掩模的工序；通过该光掩模对具有ITO电极且涂布有感光性抗蚀剂而成的TFT液晶面板基板进行曝光的工序；对该感光性抗蚀剂进行显影的工序；以及用含有草酸的蚀刻液对该ITO电极进行蚀刻的工序。

18.一种表膜，其是与TFT液晶面板制造用掩模一起使用的表膜，该表膜包含框体、层叠于该框体的下边缘表面侧的粘合材料层、以及铺展于该框体的上边缘表面侧的表膜用膜，该表膜用膜的膜厚为0.5μm以上且8μm以下，并且，该表膜用膜在70℃下72小时的草酸透过量为1×10^-4mg/cm²以下。

19.根据权利要求18所述的表膜，所述表膜用膜的面积为1000cm²以上且30000cm²以下。

20.根据权利要求18或19所述的表膜，所述表膜用膜由包含环烯烃系树脂的膜材料形成。