[发明专利]具有改进的小孔结构的含碳材料无效

专利信息
申请号: 200980147058.6 申请日: 2009-11-17
公开(公告)号: CN102224103A 公开(公告)日: 2011-10-19
发明(设计)人: C·K·巴纳基;S·B·西尔斯;T·J·杰克逊 申请(专利权)人: R.J.雷诺兹烟草公司
主分类号: C01B31/08 分类号: C01B31/08;A24D3/16
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 顾峻峰;李丹丹
地址: 美国北卡*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 具有 改进 小孔 结构 材料
【权利要求书】:

1.一种提高多孔活性碳的间隙孔体积的方法,所述方法包括:

用金属氧化物或金属氧化物前体涂覆多孔活性碳以形成处理过的活性碳;以及

煅烧所述处理过的活性碳持续一段时间,并在足以提高所述处理过的活性碳的间隙孔体积的温度下进行煅烧。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述涂覆包括用液体组合物来涂覆所述多孔活性碳,所述液体组合物包括液体载体和金属氧化物或金属氧化物前体。

3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述液体载体是水。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述金属从以下组群中选择:碱金属、碱土金属、IIIB、IVB、VB、VIB、VIIB、VIIIB、IB和IIB族的过渡金属,IIIA族元素、IVA族元素、镧系元素和锕类。

5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述金属氧化物前体呈金属盐或有机金属化合物的形式,所述金属盐或有机金属化合物能够热分解而形成金属氧化物。

6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述金属前体呈金属盐的形式,所述金属盐选自以下的组群:柠檬酸盐、硝酸盐、硝酸铵、硫酸盐、氰酸盐、氢化物、氨基化合物、硫醇盐、碳酸盐、卤化物及其氢氧化物。

7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述金属氧化物是氧化铈。

8.如权利要求1所述的方法,其特征在于,煅烧步骤的温度在约250℃至约500℃之间。

9.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述煅烧在干燥的气氛中进行。

10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,在所述煅烧步骤过程中,所述干燥的气氛的水分含量不大于约5重量%。

11.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述煅烧步骤持续至少约4小时。

12.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述煅烧过的活性碳具有至少约为0.10cm3/g的总间隙孔体积,以及至少约为15%的每总孔体积的间隙孔体积的百分比。

13.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述煅烧过的活性碳具有至少约为0.12cm3/g的总间隙孔体积,以及至少约为20%的每总孔体积的间隙孔体积的百分比。

14.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述煅烧过的活性碳具有至少约为0.10cm3/g且小于约0.25cm3/g的总间隙孔体积,以及至少约为15%且小于约35%的每总孔体积的间隙孔体积的百分比。

15.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述处理过的活性碳包括至少约为0.1重量%的金属氧化物或金属氧化物前体。

16.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述处理过的活性碳包括至少约为1重量%的金属氧化物或金属氧化物前体。

17.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述处理过的活性碳包括至少约为2重量%的金属氧化物或金属氧化物前体。

18.如权利要求1所述的方法,其特征在于,包括:

用液体组合物来涂覆所述多孔活性碳,所述液体组合物包括液体载体和金属氧化物或金属氧化物前体,以形成包括至少约为0.1重量%的金属氧化物或金属氧化物前体的处理过的活性碳;

干燥所述处理的活性碳;以及

在低于约600℃的温度下煅烧所述处理过的活性碳。

19.如权利要求1所述的方法,其特征在于,包括:

用含有氧化铈的水性组合物来涂覆所述多孔活性碳,以形成所述处理过的活性碳;

干燥所述处理的活性碳;以及

在干燥气氛中煅烧所述处理过的活性碳,持续至少约4小时,且是在没有蒸汽的情况下温度至少约为250℃下进行煅烧,使得煅烧过的活性碳具有至少约为0.10cm3/g的总间隙孔体积,和至少约为15%的每总孔体积的间隙孔体积的百分比。

20.一种活性碳,所述活性碳根据权利要求1至19中任一项所述的方法制备。

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