[发明专利]照射至少两个目标体积有效
申请号: | 200980147863.9 | 申请日: | 2009-10-17 |
公开(公告)号: | CN102227236A | 公开(公告)日: | 2011-10-26 |
发明(设计)人: | C·贝尔特;E·里茨尔 | 申请(专利权)人: | GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司;西门子公司 |
主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10;G21K5/04;G21K5/10 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 董华林 |
地址: | 德国达*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 照射 至少 两个 目标 体积 | ||
1.用于计划利用一条接近目标点(72,110)的射线(20)照射两个目标体积(81、92,101、121)的方法,用以在所述两个目标体积(81、92,101、121)中的第一目标体积中累积第一目标剂量分配和在所述两个目标体积(81、92,101、121)中的第二目标体积中累积第二目标剂量分配,其特征在于以下步骤:
使目标点(72,1110)与所述目标体积(81、92,101、121)之一相配,
确定由于接近与第一目标体积(81、92,101、121)相配的目标点(72,110)而引起的第一累积与由于接近与第二目标体积(81、92,101、121)相配的目标点(72,110)而引起的第二累积的叠加,以及
匹配用于所述目标点(81、92,101、121)中的至少一个目标点的计划,接近所述至少一个目标点有助于第一和第二累积的叠加。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,目标点(72,110)落到栅格(70)的栅格点(71)上。
3.根据上述权利要求之一所述的方法,其中,所述计划规定划分到多次通行中的照射。
4.根据权利要求3所述的方法,其中,照射计划在每次通行之前进行。
5.根据上述权利要求之一所述的方法,其中,考虑目标体积(81、92,101、121)之一的变化,以改变计划。
6.根据上述权利要求之一所述的方法,其中,计划规定对目标体积(81、92,101、121)跟踪要照射的结构。
7.根据上述权利要求之一所述的方法,其中,目标体积分别设有一个安全边框(83、93,103、123)。
8.根据上述权利要求之一所述的方法,其中,给要照射的物体的点(72,110)配设关于与目标体积(81、92,101、121)相配的信息。
9.用于利用一条接近目标点(72,110)的射线(20)照射两个目标体积(81、92,101、121)的方法,用以在所述两个目标体积中的第一目标体积中累积第一目标剂量分配和在所述两个目标体积中的第二目标体积中累积第二目标剂量分配,其特征在于以下步骤:
使目标点(72,110)与所述目标体积(81、92,101、121)之一相配,
确定由于接近与第一目标体积(81、92,101、121)相配的目标点(72,110)而引起的第一累积与由于接近与第二目标体积(81、92,101、121)相配的目标点(72,110)而引起的第二累积的叠加,以及
匹配用于所述目标点(72,110)中的至少一个目标点的照射,接近所述至少一个目标点有助于第一和第二累积的叠加。
10.根据权利要求9所述的方法,包括根据权利要求1至8之一所述的计划照射的方法。
11.用于利用一条接近目标点(72,110)的射线(20)照射两个目标体积(81、92,101、121)的设备(10),用以在所述两个目标体积(81、92,101、121)中的第一目标体积中累积第一目标剂量分配和在所述两个目标体积(81、92,101、121)中的第二目标体积中累积第二目标剂量分配,该设备包括射线源(11)和用于控制所述设备(10)的控制系统(41、42、46、47),
其特征在于,所述控制系统(41、42、46、47)设计成
用于使目标点(72、110)与目标体积(81、92,101、121)之一相配,
用于确定由于接近与第一目标体积(81、92,101、121)相配的目标点(72,110)而引起的第一累积与由于接近与第二目标体积(81、92,101、121)相配的目标点(72,110)而引起的第二累积的叠加,以及
用于匹配用于所述目标点(72,110)中的至少一个目标点的照射,接近所述至少一个目标点有助于第一和第二累积的叠加。
12.根据权利要求11所述的设备(10),设计成用于实施根据权利要求1至8之一项所述的用于计划照射的方法。
13.根据权利要求11或12所述的设备(10),设计成用于实施根据权利要求9或10所述的用于照射的方法。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司;西门子公司,未经GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司;西门子公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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