[发明专利]光产碱剂

说明书

技术领域

本发明涉及具有通过光(活性能量射线)的照射而产生碱的性质的化合物以及含有其而得的光产碱剂，更详细地说，本发明涉及即使在波长300nm以上也具有感光区域的高灵敏度的化合物以及含有这些化合物而得的光产碱剂。

背景技术

对于基于光(活性能量射线)敏感性聚合引发剂(下文有时仅简称为光聚合引发剂。)的固化(下文有时仅简称为光固化。)来说，与基于热敏感性聚合引发剂(下文有时仅简称为热聚合引发剂。)的固化(下文有时仅简称为热固化。)相比，其具有能够在低温且短时间下进行固化、能够形成微细图案等很多优点，因而广泛用于涂料、印刷油墨、齿科材料、抗蚀剂等表面加工领域中。

对于光固化技术中使用的光聚合引发剂，根据所产生的活性种可以大致分为光自由基产生剂、光产酸剂、光产碱剂这3组。光自由基产生剂是以苯乙酮等为代表的、以往以基于光(活性能量射线)的照射而产生自由基种的光聚合引发剂的形式而广泛使用的物质，但由于自由基种具有受到空气中的氧的作用而失活的性质，因而其具有在氧存在下聚合反应被阻断而使固化受到抑制的缺点。因此，特别是在使用光自由基产生剂对薄膜进行固化的情况下，需要进行对空气中的氧进行屏蔽等特殊工作。另外，对于光产酸剂，由于其为通过光(活性能量射线)的照射而产生酸的光聚合引发剂，因而具有不会受到氧的阻碍的优点，从该方面出发，自上世纪90年代后半期开始有多种光产酸剂供给至实际使用中，但在基于光(活性能量射线)的照射而产生的酸在固化后仍残留在体系内的情况下，被指出存在有固化膜受到改性所致的性能降低的问题、在半导体领域等中有酸对基板的腐蚀性的问题。另一方面，对于光产碱剂，由于其为通过光(活性能量射线)的照射而产生碱的物质，因而不受空气中氧的阻碍，并且，不易出现腐蚀性的问题以及固化膜的改性，因而其为近年来广泛进行研究开发的光聚合引发剂。

作为这样的光产碱剂，已知有例如氨基甲酸酯(カルバメ一ト)系(氨基甲酸酯(ウレタン)系)的光产碱剂(例如专利文献1等)、α-氨基酮系的光产碱剂(例如专利文献2等)、季铵系的光产碱剂(例如专利文献3、4等)、O-酰基肟系的光产碱剂(例如专利文献5等)等各种光产碱剂。

另外，对于作为光固化性树脂而使用的环氧树脂，以往是使该树脂与光产酸剂等产生酸的化合物共存，利用基于光(活性能量射线)的作用而由产酸剂生成的酸使环氧树脂进行接枝聚合从而进行固化的；但如上文所简述，在固化后体系内仍残存有酸的情况下，具有残存的酸所致的固化膜的改性及基板的腐蚀性的问题。因此，作为不会产生这些问题的固化方法，针对利用碱对环氧树脂进行固化的方法、即利用光产碱剂的环氧树脂的固化进行了各种研究，但现状是由于环氧树脂对光产碱剂的灵敏度不足因而处于难以实用化的状况。因此进行了不使用环氧树脂而使用环硫树脂作为光固化性树脂的光固化性树脂组合物的研究(例如专利文献4等)。但是，由于作为环硫树脂前体的环硫化合物在300nm附近的波长显示出吸收，因而在使用对于同样地以300nm附近的波长为中心的光(活性能量射线)具有感光区域的光产碱剂的情况下，具有光产碱剂的产碱效率降低这样的问题。

在这样的状况下，希望进行不会与环硫化合物的光吸收区域重合、或者即使在重合的情况下产碱效率也不会降低、能够有效地产生碱的光产碱剂的开发，也即，希望进行即使对与现有的光产碱剂的感光区域相比为更长波长的光(活性能量射线)也具有高敏感性、通过该长波长的光(活性能量射线)的照射来有效地产生碱的光产碱剂的开发。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平10-77264号公报

专利文献2：日本特开平11-71450号公报

专利文献3：日本特开2003-212856号公报

专利文献4：日本特开2005-264156号公报

专利文献5：日本特开2006-36895号公报

发明内容

发明要解决的课题

本发明要解决的课题在于提供即使进行与现有的光产碱剂所感光的光(活性能量射线)相比波长更长的光(活性能量射线)的照射也容易地产生碱的新颖化合物、含有这些化合物而得的光产碱剂和产碱方法。

用于解决课题的手段

本发明为通式[1]所示的化合物的发明：

{式中，Ar表示选自由通式[I]所示的蒽基、通式[II]所示的蒽醌基以及通式[III]所示的芘基组成的组中的任意一种基团；