[发明专利]刮刀有效

专利信息
申请号: 200980148792.4 申请日: 2009-08-27
公开(公告)号: CN102256794A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: H·J·布鲁德曼;S·施蒂尔茨;A·赫格利 申请(专利权)人: 达特怀勒瑞士科技股份公司
主分类号: B41F9/10 分类号: B41F9/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 严志军;梁冰
地址: 瑞士布*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要:
搜索关键词: 刮刀
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种尤其地用于从印模(Druckform)的表面刮去(Abrakeln)印刷墨的刮刀(Rakel),该刮刀包括带有在纵向的(longitudinal)方向上构造的工作边缘区域(Arbeitskantenbereich)的平型的(flach)且长形的基体,其中,利用以无电流地(stromlos)沉积的镍-磷-合金为基础的第一覆层覆盖(überziehen)工作边缘区域,并且其中,硬质材料颗粒分散(dispergieren)在第一覆层中。此外,本发明涉及一种用于制造刮刀的方法。

背景技术

在印刷工业中,刮刀尤其地用于从印刷滚筒或印刷辊(Druckwalze)的表面处刮除(Abstreichen)多余的印刷墨。尤其地在凹版印刷和苯胺印刷中,刮刀的质量对于印刷结果具有决定性的影响。例如,刮刀的与印刷滚筒处于接触的工作边缘的不平度或不均匀性导致不完全地从印刷滚筒的桥接件(Steg)处刮除印刷墨。由此,在印刷基底上可导致不可控地给出(Abgabe)印刷墨。

在刮除期间,刮刀的工作边缘压靠到印刷滚筒或印刷辊的表面处,并且相对于该表面运动。由此,尤其地在转轮印刷机(Rotationsdruckmaschine)中,工作边缘遭受高的机械的负载,其带来相应的磨损。因此,刮刀基本上为这样的消费品,即,其必须周期性地进行更换。

通常,刮刀以带有特殊地成型的工作边缘的钢制成的基体为基础。此外,为了改进刮刀的使用寿命,刮刀的工作边缘可设有由金属和/或塑料制成的覆层或覆盖物金属的覆层常常包含镍或铬,如有可能其以与其它原子和/或化合物(Verbindung)混合或成合金的方式存在。在此特别地,覆层的物质的特性决定性地影响刮刀的机械的和摩擦的特征。

例如,在文件WO 2003/064157(Nihon New Chrome Co.Ltd.)中描述了用于印刷技术的刮刀,该刮刀具有由带有分散在其中的硬质材料颗粒的化学的镍(chemisch Nickel)制成的第一层以及带有低的表面能的第二层。优选地,第二层由带有基于氟的(Fluor-basiert)硬化颗粒的化学的镍或由纯有机的树脂制成的覆盖物组成。

虽然相对于未涂覆的刮刀,以这种方式涂覆的刮刀具有改进的耐磨性。然而,使用寿命仍然不完全令人满意。此外表明,在使用这种类型的刮刀时,尤其地在磨合阶段中可导致不受控的条痕形成(Streifenbildung),这同样是不期望的。

因此,仍然存在对改进的刮刀的需求,该刮刀尤其地具有更长的使用寿命并同时允许优化的刮除。

发明内容

因此,本发明的目的为,实现属于开头所提及的技术领域的刮刀,该刮刀具有改进的耐磨性,并且在整个的使用寿命期间使尤其地精确地刮除印刷墨成为可能。

该目的通过根据权利要求1的特征实现。根据本发明,利用以电镀地沉积的镍为基础的第二覆层覆盖第一覆层。

就此而言,无电流地沉积的镍-磷-合金(其形成用于第一覆层的基础)理解为由镍和磷组成的混合物,其中,尤其地,磷含量为按重量计算1-15%(1-15Gew.-%)。这种类型的合金无电流地或无外界的电流地沉积并且也被称为化学镍。术语“以无电流地沉积的镍-磷-合金为基础”表示,无电流地沉积的镍-磷-合金形成第一覆层的主要组成部分。在此,附加于无电流地沉积的镍-磷-合金,在第一覆层中完全地还可存在其它类型的原子和/或化学的化合物,其具有比无电流地沉积的镍-磷-合金更少的份额。优选地,在第一覆层中,无电流地沉积的镍-磷-合金的份额为按重量计算至少50%,尤其优选地按重量计算至少75%,并且相当尤其优选地按重量计算至少95%。理想地,除了不可避免的污物外,第一覆层仅仅由带有分散在其中的硬质材料颗粒的无电流地沉积的镍-磷-合金组成。

根据本发明,硬质材料颗粒尤其地包括金属碳化物、金属氮化物、陶瓷以及金属间相(intermetallische Phase),其优选地具有至少1000HV的硬度。这例如包括,金刚石(C),立方氮化硼(BN),碳化硼(BC),氧化铬(Cr2O3),二硼化钛(TiB2),氮化锆(ZrN),碳化锆(ZrC),碳化钛(TiC),碳化硅(SiC),氮化钛(TiN),金刚砂(Al2O3),碳化钨(WC),碳化钒(VC),碳化钽(TaC),二氧化锆(ZrO2)和或氮化硅(Si3N4)。

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