[发明专利]用于分析分子污染物从样本除气的装置和方法

权利要求书

1. 一种用于分析分子污染物（22）从样本（2）除气的装置（100，200），该装置（100，200）包括：

- 用于容纳样本（2）的低压腔室（1），其中该低压腔室（1）内部的压力介于10^-3mbar与10mbar之间；

- 用于在低压腔室（1）中提供层状气流（12，33，34）的构件（4，5，7，9），其中气流的第一部分（13，35）捕获和运输从样本（2）除气的分子污染物（22）；

- 样本（2）下游第一位置处的用于接收气流的第一部分（13，35）的构件（3，40）；以及

- 用于分析气流的第一部分（13，35）的内含物的分析器（3）。

2. 依照权利要求1的装置（100，200），其中低压腔室（1）内部的压力介于10^-2mbar与1mbar之间。

3. 依照权利要求1的装置（100，200），其中该装置（100，200）进一步包括沿着低压腔室（1）内表面的下游第二位置处的用于接收气流的第二部分（14，34）的构件（41），所述第二部分（14，34）捕获和运输从低压腔室（1）内表面除气的分子污染物（21）。

4. 依照权利要求1的装置（200），进一步包括样本（2）下游第三位置处的预集中设备（40），该设备用于将除气的分子污染物（22）与气流的第一部分（13，35）分离并且用于在一定时间段期间收集除气的分子污染物（22）。

5. 依照权利要求4的装置（200），进一步包括用于加热预集中设备（40）的构件。

6. 依照权利要求1的装置（200），进一步包括隔离阀（8），该隔离阀用于将低压腔室（1）分成：用于容纳样本（1）的第一部分，该第一部分包括用于向低压腔室（1）提供层状气流（12，33，34）的构件（4，5，7，9）；以及第二部分，其包括用于接收气流第一部分（13，35）的构件（3，40）。

7. 依照权利要求1的装置（100，200），其中用于在低压腔室中提供层状气流（12，33，34）的构件（4，5，7，9）包括用于向低压腔室（1）供应气流（11，31，32）的第一入口（4，9）以及用于使得气流（11，31，32）为层状的一组叶片（5）。

8. 依照权利要求7的装置（200），其中第一入口（4，9）用于供应气流的第一部分（33）并且其中所述装置（200）进一步包括低压腔室（1）中用于向低压腔室（1）供应气流第二部分（34）的第二入口（7）。

9. 依照权利要求1的装置（200），其中样本（2）下游位置处的用于接收气流第一部分（13，35）的构件（3，40）包括漏斗（45）。

10. 依照权利要求1的装置（100，200），其中分析器（3）包括适合于检测气流中的特定元素的检测器。

11. 依照权利要求10的装置（100，200），其中所述检测器为原子发射检测器。

12. 一种用于分析分子污染物（22）从样本（2）除气的方法，该方法包括步骤：

a) 在低压腔室（1）中容纳样本（2）；

b）在低压腔室（1）内部提供10^-3mbar与10mbar之间的压力；

c）在低压腔室（1）中提供层状气流（12，33，34），该气流具有捕获和运输从样本（2）除气的分子污染物（22）的第一部分（13，35）；

d）在样本（2）下游第一位置处接收气流的第一部分（13，35）；以及

e）分析气流的第一部分（13，35）的内含物。

13. 依照权利要求12的方法，其中步骤c）包括步骤：提供气流的第一部分（33）以及捕获和运输从低压腔室（1）内表面除气的分子污染物（21）的气流的第二部分（34）。