[发明专利]电子材料用清洗剂

权利要求书

1.一种电子材料用清洗剂，其中，所述清洗剂含有氨基磺酸(A)、分子内具有至少一个磺酸基或所述磺酸基的盐的阴离子型表面活性剂(B)、螯合剂(C)以及水作为必要成分。

2.如权利要求1所述的电子材料用清洗剂，其中，所述清洗剂在25℃时pH为3.0以下。

3.如权利要求1或2所述的电子材料用清洗剂，其中，基于所述清洗剂的有效成分的总重量，所述氨基磺酸(A)的含量为5重量％～90重量％，所述阴离子型表面活性剂(B)的含量为0.1重量％～50重量％，且所述螯合剂(C)的含量为0.1重量％～50重量％。

4.如权利要求1～3中任一项所述的电子材料用清洗剂，其中，所述(B)相对于所述(C)的重量比[(B)/(C)]为0.1～7。

5.如权利要求1～4中任一项所述的电子材料用清洗剂，其中，所述(B)是重均分子量为1,000～2,000,000的高分子阴离子型表面活性剂(B1)。

6.如权利要求5所述的电子材料用清洗剂，其中，所述(B1)是选自聚苯乙烯磺酸、聚[2-(甲基)丙烯酰氨基-2，2-二甲基乙磺酸]、2-(甲基)丙烯酰氨基-2，2-二甲基乙磺酸/(甲基)丙烯酸共聚物、萘磺酸甲醛缩合物以及这些化合物的盐构成的组中的至少一种。

7.如权利要求1～6中任一项所述的电子材料用清洗剂，其中，所述(C)是选自氨基多羧酸、羟基羧酸、膦酸、缩合磷酸以及这些化合物的盐构成的组中的至少一种。

8.如权利要求1～7中任一项所述的电子材料用清洗剂，其中，所述清洗剂还含有亲水性溶剂(D)。

9.如权利要求1～8中任一项所述的电子材料用清洗剂，其中，所述清洗剂还含有非离子型表面活性剂(E)。

10.如权利要求1～9中任一项所述的电子材料用清洗剂，其中，所述电子材料是使用二氧化硅、氧化铝或金刚石作为研磨剂研磨后的基板。

11.如权利要求1～10中任一项所述的电子材料用清洗剂，其中，所述电子材料是磁盘用玻璃基板、平板显示器用玻璃基板、光掩膜用玻璃基板、光学透镜、薄膜太阳能电池用玻璃基板或半导体基板。

12.一种电子材料的制造方法，其中，所述方法包括使用如权利要求1～11中任一项所述的清洗剂对所述电子材料进行清洗的工序。