[发明专利]治疗设备有效
申请号: | 200980149669.4 | 申请日: | 2009-12-04 |
公开(公告)号: | CN102245265A | 公开(公告)日: | 2011-11-16 |
发明(设计)人: | M·H·库恩;J·A·奥弗韦格 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10;A61B5/055;A61N2/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 黄云铎;陈松涛 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 治疗 设备 | ||
1.一种治疗设备,包括:
磁共振成像系统(100,200),其适于采集成像区(112)中的磁共振成像数据集,所述磁共振成像系统包括用于生成磁场的装置(102,202);
引导装置(134,234,246,244),其适于将带电粒子的射束(208,108)引导到受试者(104)体内的目标区(110),其中,所述成像区包括所述目标区;
区确定装置(128),其适于使用所述磁共振成像数据集确定所述受试者体内的所述目标区的位置;
轨迹计算装置(130),其适于使用描述所述磁场的磁场数据计算所述射束的轨迹(508,510,512,514)使得所计算的轨迹到达所述目标区;
控制装置(114),其适于使用所计算的轨迹控制所述引导装置使得所述射束跟随所计算的轨迹。
2.如权利要求1所述的治疗设备,其中,所述引导装置包括用于调整所述射束的轨迹的带电粒子光学器件,并且其中,所述引导装置还包括用于对组成所述射束的带电粒子的能量进行调制的可调衰减器。
3.如权利要求1或2所述的治疗设备,其中,所述轨迹计算装置适于计算组成所述射束的所述带电粒子在所述受试者体内的能量损失,并且其中,所述轨迹计算装置使用所述能量损失对所计算的轨迹进行调整。
4.如权利要求3所述的治疗设备,其中,所述引导装置适于引导带电粒子的射束,所述带电粒子的射束包括其动能大于或者等于使得所述粒子的射束的布拉格峰在所述目标区内所必需的动能的带电粒子,并且其中,所述射束控制装置还包括用于对所述射束的所述布拉格峰的位置进行调制使得所述布拉格峰在所述目标区内的可调衰减器。
5.如前述权利要求中的任意一项所述的治疗设备,其中,所述MRI系统适于以周期性时间间隔采集所述磁共振成像数据集,其中,所述区确定装置还适于使用以周期性时间间隔采集的所述磁共振成像数据集对所述目标区的运动进行监测,其中,所述区确定装置还适于使用以周期性时间间隔采集的所述磁共振成像数据集对所述受试者沿着所述射束的轨迹的内部运动进行监测,并且其中,所述轨迹计算装置适于在所述轨迹的计算期间对所述目标区的运动和所述受试者沿着所述射束的轨迹的运动进行补偿。
6.如前述权利要求中的任意一项所述的治疗设备,其中,所述磁共振成像系统适于对所述成像区内的所述带电粒子的轨迹进行测量,其中,所述射束控制装置适于使用所测量的轨迹对所述射束的轨迹进行调整。
7.如前述权利要求中的任意一项所述的治疗设备,其中,所述引导装置适于引导包括下列中的至少一种的带电粒子的射束:质子、碳核或者原子核。
8.如前述权利要求中的任意一项所述的治疗设备,其中,所述区确定装置还适于接收用于规划治疗的规划数据,其中,所述区确定装置适于使用所述磁共振成像数据集确认所述规划数据是否满足预定标准,其中,如果所述规划数据不满足所述预定标准,所述区确定适于执行下列中的至少一项:停止生成所述带电粒子的射束,警告操作者所述规划数据不精确,调整所述规划数据和从所述操作者接收对所述规划数据的校正。
9.如前述权利要求中的任意一项所述的治疗设备,其中,所述用于生成磁场的装置包括分离磁体,所述分离磁体包括至少两个圆柱形子磁体(102,202),其中,所述两个子磁体的圆柱对称轴对准,并且所述分离磁体的中间平面将所述两个子磁体分开,其中,所述分离磁体具有关于其圆柱对称轴的中央区域,其中,所述成像区位于所述中央区域内并且在所述中间平面的中央,并且其中,在所述两个子磁体之间存在分离区,其中,所述引导装置适于使得所述射束横穿所述分离区,并且其中,所述引导装置适于关于所述分离磁体的所述圆柱对称轴旋转。
10.如权利要求9所述的治疗设备,其中,所述引导装置还包括适于引导来自带电粒子生成装置的射束的射束导引(244),并且其中,所述射束导引适于围绕所述分离磁体的所述对称轴旋转。
11.如权利要求9或10所述的治疗设备,其中,所述分离磁体包括适于接收受试者的受试者通道(248),其中,所述治疗设备还包括用于支撑所述受试者的受试者支撑(106),其中,受试者支撑(106,206)位于所述受试者通道内,其中,所述引导装置还包括束流管(246),其中,所述束流管包括真空管,并且其中,所述束流管从所述引导装置延伸到所述受试者通道的表面。
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