[发明专利]基于珍珠岩片的干扰颜料有效
申请号: | 200980149922.6 | 申请日: | 2009-12-01 |
公开(公告)号: | CN102245715A | 公开(公告)日: | 2011-11-16 |
发明(设计)人: | P·比雅尔;M·贝桑;P·比尼翁 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫欧洲公司 |
主分类号: | C09C1/00 | 分类号: | C09C1/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 张蓉珺;林柏楠 |
地址: | 德国路*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 珍珠岩 干扰 颜料 | ||
1.颜料,其包含片状珍珠岩基质,和
(a)介电材料层和/或
(a’)金属层,其中所述片状珍珠岩基质不包含大于5重量%的3D孪晶结构粒子。
2.根据权利要求1所述的颜料,其中珍珠岩基质具有从15至50微米的平均粒子尺寸(D50)。
3.根据权利要求1所述的颜料,其中珍珠岩基质的尺寸分布特征如下:
D10至少为5微米,
D50介于约15和小于50微米之间,并且
D90为35微米以上至小于85微米。
4.根据权利要求3所述的颜料,其中珍珠岩基质的尺寸分布特征如下:
D10为5-10微米,
D50为20-40微米,并且
D90为50-70微米。
5.根据权利要求1所述的颜料,其中介电材料为高折光指数的金属氧化物,其选自TiO2、ZrO2、Fe2O3、Fe3O4、Cr2O3、ZnO或这些氧化物的混合物或钛酸铁、水合氧化铁、低氧化钛或这些化合物的混合物和/或混合相。
6.根据权利要求5所述的颜料,其中颜料还包含(b)低折光指数金属氧化物,其中折光指数差至少是0.1。
7.根据权利要求6所述的颜料,其中低折光指数金属氧化物为SiO2、Al2O3、AlOOH、B2O3或其混合物,其中可包含碱金属氧化物或碱土金属氧化物作为另外组分。
8.根据权利要求1-7任一项所述的颜料,其具有以下层结构:
其中可在二氧化钛之前沉积二氧化锡。
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