[发明专利]用于放大的3D视场的半圆反向偏移扫描无效

专利信息
申请号: 200980150149.5 申请日: 2009-12-08
公开(公告)号: CN102245107A 公开(公告)日: 2011-11-16
发明(设计)人: N·J·努尔德霍尔克 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: A61B6/03 分类号: A61B6/03
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈松涛;蹇炜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 用于 放大 视场 半圆 反向 偏移 扫描
【权利要求书】:

1.一种使用辐射探测器(204)和辐射源(202)的计算机层析成像方法,所述辐射探测器(204)和所述辐射源(202)均安装于支撑体上,所述支撑体可绕旋转轴(214)旋转,所述方法包括:

a)将所述辐射探测器(204)从具有中心横向视场且具有中心探测器几何结构的位置侧向移位至第一偏移位置(212);

b)由所述辐射源(202)发射第一辐射、由所述辐射探测器(204)探测所述第一辐射、并获取表示所述第一辐射的投射数据;

c)绕所述旋转轴(214)旋转所述支撑体180°;

d)由所述辐射源(202)发射第二辐射、由所述辐射探测器(204)探测所述第二辐射、并获取表示所述第二辐射的投射数据;

e)以与所述第一移位(a)相反的方向和所述第一移位(a)两倍的长度将所述辐射探测器(204)从所述第一偏移位置侧向移位至第二偏移位置(226);

f)由所述辐射源(202)发射第三辐射、由所述辐射探测器(204)探测所述第三辐射、并获取表示所述第三辐射的投射数据;

g)绕所述旋转轴(214)旋转所述支撑体180°;

h)由所述辐射源(202)发射第四辐射、由所述辐射探测器(204)探测所述第四辐射、并获取表示所述第四辐射的投射数据。

2.如权利要求1所述的方法,其中,所述探测器(204)为平板探测器。

3.如权利要求1或2所述的方法,其中,所述移位发生在平行于所述探测器的平面的方向上。

4.如权利要求1至3中任一项所述的方法,其中,所述探测器(204)包括过渡区(224),在所述过渡区(224)中,所述探测器生成重复的投射数据。

5.如权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,根据所述辐射探测器(204)的所述移位对所述辐射源(202)进行移动。

6.如权利要求1至5中任一项所述的方法,其中,所述旋转轴(214)为所述横向视场(218)的中心。

7.如权利要求1至6中任一项所述的方法,其中,所述源(202)发射的辐射束具有大体扇形的横截面,所述截面包括第一和第二最外射线(242、244),并且所述最外射线以不同入射角与所述探测器(204)相交。

8.如权利要求1至7中任一项所述的方法,其中,从所述源(202)至所述探测器(204)的焦斑路径在第一、第二、第三、和第四发射和探测辐射期间距所述旋转轴(214)保持非零距离。

9.如权利要求1至8中任一项所述的方法,其中,从所述具有中心探测器几何结构的位置至所述第一位置和至所述第二位置的移位距离小于所述移位(228)的方向上的所述探测器的宽度(220)的一半。

10.如权利要求1至9中任一项所述的方法,包括使用反向视野来重建3D成像数据体的步骤。

11.一种用于获取物理对象的投射图像的成像系统,所述系统包括:

辐射源(202),生成X射线;

辐射探测器(204),用于探测源自所述辐射源的辐射射线;

支撑体,可绕旋转轴(214)旋转地支撑所述源和所述探测器;

其中,所述辐射探测器(204)被配置为从具有中心横向视场(FOV)并具有中心探测器几何结构的位置侧向移位至第一偏移位置(212)并以与所述第一移位(a)相反的方向和所述第一移位(a)两倍的长度从所述第一偏移位置侧向移位至第二偏移位置(226)。

12.如权利要求11所述的成像系统,其中,所述源被配置为根据所述探测器的移位被从中心源位置调节。

13.一种控制装置,被配置为致动用于使辐射探测器(204)从具有中心横向视场(FOV)并具有中心探测器几何结构的位置侧向移位至第一偏移位置(212)并以与所述第一移位(a)相反的方向和所述第一移位(a)两倍的长度从所述第一偏移位置侧向移位至第二偏移位置(226)的构件。

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