[发明专利]凸起状图案形成方法、曝光装置和光掩模

权利要求书

1.一种凸起状图案形成方法，对涂敷了正性的感光材料的基板经由光掩模照射曝光光来对所述感光材料进行曝光，从而在所述基板上形成高度不同的多种凸起状图案，

所述凸起状图案形成方法的特征在于，

在使所述基板以一定速度向一个方向通过所述光掩模的下侧的同时，

至少执行如下步骤：

对与所述基板上的所述多种凸起状图案形成部对应地由所述光掩模遮光的第1遮光部的外侧区域进行规定次数的多重曝光的步骤；

对与所述多种凸起状图案形成部中规定的凸起状图案形成部的大致中央部对应地由所述光掩模遮光的规定面积的第2遮光部的外侧区域、和所述规定的凸起状图案形成部以外的凸起状图案形成部进行规定深度的曝光的步骤；和

对所述基板的感光材料进行显影处理的步骤。

2.一种曝光装置，在将涂敷了正性的感光材料的基板以一定速度向一个方向传送的同时，通过控制单元控制经由光掩模而照射于所述基板的曝光光的照射定时，来对所述感光材料进行曝光，从而在所述基板上曝光高度不同的多种凸起状图案，

所述曝光装置的特征在于，

所述控制单元在所述基板通过所述光掩模的下侧时，至少以如下方式来控制所述曝光光的照射定时：

对与所述基板上的所述多种凸起状图案形成部对应地由所述光掩模遮光的第1遮光部的外侧区域进行规定次数的多重曝光，

对与所述多种凸起状图案形成部中规定的凸起状图案形成部的大致中央部对应地由所述光掩模遮光的规定面积的第2遮光部的外侧区域、和所述规定的凸起状图案形成部以外的凸起状图案形成部进行规定深度的曝光。

3.一种光掩模，其使用于在将涂敷了正性的感光材料的基板以一定速度向一个方向传送的同时，控制照射于所述基板的曝光光的照射定时，来对所述感光材料进行曝光，从而在所述基板上形成高度不同的多种凸起状图案的曝光装置，

所述光掩模的特征在于，

至少以规定的间隔在透镜基板上形成了如下图案群：

第1掩模图案群，其以与所述基板上的多种凸起状图案形成部对应的间隔具有与所述凸起状图案的横截面积大致相等的面积的第1遮光图案；和

第2掩模图案群，其具有以与所述多种凸起状图案形成部对应的间隔形成且与所述多种凸起状图案形成部中规定的凸起状图案形成部对应的规定面积的第2遮光图案、和与所述规定的凸起状图案形成部以外的凸起状图案形成部对应的开口图案。

4.根据权利要求3所述的光掩模，其特征在于，

将所述第1掩模图案群形成于所述透明基板的一面，将所述第2掩模图案群形成于所述透明基板的另一面，并且在所述透明基板的一面侧，在比形成了所述第1掩模图案群的面朝着所述透明基板的另一面侧后退了规定距离的位置，分别对应于所述第2掩模图案群的所述第2遮光图案和所述开口图案而形成了微透镜。

5.根据权利要求4所述的光掩模，其特征在于，

对于在一面形成了所述第1掩模图案群的透明基板、和在一面形成了所述第2掩模图案群并在另一面形成了所述微透镜的另一透明基板，将它们的另一方面彼此对接并接合。

6.根据权利要求4所述的光掩模，其特征在于，

对于在一面形成了所述第1掩模图案群的透明基板、和比该透明基板厚度薄且在一面形成了所述第2掩模图案群并在另一面形成了所述微透镜的另一透明基板，将它们的端面彼此对接并接合。

7.根据权利要求4～6中的任意一项所述的光掩模，其特征在于，

将所述微透镜的周围用遮光膜遮光。