[发明专利]基材蚀刻机构、真空处理装置及基材蚀刻方法

权利要求书

1.一种基材蚀刻机构，其用于真空处理装置，该真空处理装置在真空室内放出电子而将导入到上述真空室内的气体离子化，对载置在设于上述真空室内的旋转台上的基材进行蚀刻而对基材进行清洁净化，其特征在于，

该基材蚀刻机构具有：

一对电力导入端子，其用于向作为电子源的丝极导入电力；

多根丝极，其并联连接在上述一对电力导入端子之间。

2.根据权利要求1所述的基材蚀刻机构，其特征在于，

上述多根丝极在与上述旋转台的旋转轴线正交的平面内沿与旋转轴线方向正交的方向配置。

3.根据权利要求1或2所述的基材蚀刻机构，其特征在于，

即使在上述多根丝极中的任意的丝极在上述基材的蚀刻处理过程中断丝的情况下，也能够利用未断丝的有效的丝极继续进行蚀刻处理。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的基材蚀刻机构，其特征在于，

该基材蚀刻机构具有：

断丝检测部件，其用于检测上述多根丝极中的任意的丝极产生了断丝与否；

电力控制机构，其用于在上述断丝检测部件检测到断丝的情况下，调整流向有效的丝极的电流，使得不使上述有效的丝极流入过大的电流。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的基材蚀刻机构，其特征在于，

该基材蚀刻机构具有：

断丝检测部件，其用于检测上述多根丝极中的任意的丝极产生了断丝与否；

电力控制机构，其用于控制由自上述有效的丝极产生的电子产生的放电电流量，使得在上述断丝检测部件进行断丝检测之前和断丝检测之后、上述基材的蚀刻率恒定。

6.根据权利要求1～4中任一项所述的基材蚀刻机构，其特征在于，

该基材蚀刻机构具有：

有效丝极数识别部件，其用于识别上述有效的丝极的根数；

电力控制机构，其用于与上述有效的丝极的根数成正比地控制由自上述有效的丝极产生的电子产生的放电电流量。

7.根据权利要求6所述的基材蚀刻机构，其特征在于，

该基材蚀刻机构具有：

有效丝极数识别部件，其用于识别上述有效的丝极的根数；

电力控制机构，其用于与上述有效的丝极的根数成正比地控制由自上述有效的丝极产生的电子产生的放电电流量；

通电时间控制机构，其根据由上述电力控制机构控制的放电电流量，控制向上述电力导入端子通电的时间，以维持规定的蚀刻量。

8.一种真空处理装置，其特征在于，

该真空处理装置在上述真空室内具有一个或多个权利要求1～7中任一项所述的基材蚀刻机构。

9.一种真空处理装置，其特征在于，

该真空处理装置在上述真空室内在上下方向上以规定间隔具有多个权利要求6或7所述的基材蚀刻机构，

该真空处理装置具有电力控制机构和通电时间控制机构，

在上述多个基材蚀刻机构内，在任意的丝极断丝的情况下，

该电力控制机构将上述多个基材蚀刻机构的所有的放电电流量控制为与上述有效的丝极的根数最少的基材蚀刻机构的放电电流量相等的放电电流量；

通电时间控制机构以维持规定的蚀刻量的方式，根据由上述电力控制机构控制的放电电流量，控制向上述电力导入端子通电的时间。

10.一种基材蚀刻方法，其特征在于，

在该基材蚀刻方法中使用权利要求8或9的真空处理装置来蚀刻基材并进行清洁净化。

11.一种基材蚀刻方法，其使用权利要求4～7中任一项所述的基材蚀刻机构，其特征在于，

在上述断丝检测部件检测出多根丝极中的任意的丝极产生了断丝的情况下，利用上述电力调整机构调整流向上述有效的丝极的电流，以不向上述有效的丝极流入过大的电流。

12.一种基材蚀刻方法，其使用权利要求5所述的基材蚀刻机构，其特征在于，

在上述断丝检测部件检测出多根丝极中的任意的丝极产生了断丝的情况下，利用上述电力控制机构控制由自上述有效的丝极产生的电子产生的放电电流量，使得在由上述断丝检测部件进行断丝检测之前和断丝检测之后、上述基材的蚀刻率恒定。

13.一种基材蚀刻方法，其使用权利要求7所述的基材蚀刻机构，其特征在于，

利用上述有效丝极数识别部件识别上述有效的丝极的根数，利用上述电力控制机构与上述有效的丝极的根数成正比地控制由自上述有效的丝极产生的电子产生的放电电流量，并且根据由上述电力控制机构控制的放电电流量，利用上述通电时间控制机构，以维持规定的蚀刻量的方式，控制向上述电力导入端子通电的时间。