[发明专利]致动系统

权利要求书

1.一种装置，该装置包括一种致动系统，该致动系统包括：

一个剂量室，该剂量室包括一个用于高压流体的入口；

一个工作室，该工作室从该剂量室延伸离开；

一个环形壁，该环形壁将该工作室的一部分从该剂量室上分开，这样使得该剂量室包绕该工作室的这个部分；在使用中一个有待沿着该工作室驱动的物件至少部分地是在该工作室的该被包围的部分中使该物件在该工作室内处于其行程的一端处，

一个阀门机构，该阀门机构选择性地允许高压流体从该剂量室流入该活塞室中。

2.如权利要求1所述的装置，其中该环形壁是一个环形阀门构件，该环形阀门构件在一种密封状态与一种开放状态之间是可移动的，在该开放状态下在该剂量室内的流体从该剂量室向该工作室流动，并且该阀门机构进行运作以便将该阀门构件移动至该非密封的状态。

3.如权利要求2中所述的装置，其中当该阀门构件开放时一条至该剂量室的输入流动路径未被关闭、但是具有与到该工作室的出口相比大得多的流动阻力。

4.如权利要求2或权利要求3所述的装置，包括一个剂量阀锤，该剂量阀锤从一个第一位置上是可释放的以便撞击该阀门构件并且使该阀门构件离座至该开放状态。

5.如权利要求1至4中任一项所述的装置，包括在该工作室内的一个活塞、该活塞的一个塞头部分延伸到该工作室的被包围的部分之中而使该活塞在该工作室内处于其行程的一端处。

6.如权利要求1至5中任一项所述的装置，其中该活塞包括一个塞头部分，该塞头部分朝向该工作室的入口延伸；

该活塞的塞头部分的截面积朝向该工作室的入口端逐渐减小，该活塞室的入口区域具有一种形状，该形状与该活塞的塞头部分的形状互补。

7.一种装置，包括：

一个剂量室，该剂量室包括一个用于高压流体的入口；

一个工作室，该工作室具有一个入口端；

一个阀门构件，该阀门构件带有包围该工作室的入口端的一个环形密封表面，其中使该阀门构件处于一种关闭状态，该密封表面与一个环形座相遇；并且使该阀门构件处于一种开放状态，在该环形密封表面和该座之间提供一个间隙来作为从该剂量室至该工作室的一个出口；以及

一个触发机构，该触发机构包括一个锤以便使该阀门构件离座至该开放状态。

8.如权利要求7所述的装置，其中该剂量室包绕了该工作室的一部分，该阀门构件将该剂量室从该工作室的被包绕的部分上分开。

9.如权利要求7或权利要求8所述的装置，其中该工作室是一个活塞室，并且该装置包括在该工作室内的一个活塞，并且其中该活塞包括一个塞头部分，该塞头部分朝向该工作室的入口延伸；

该活塞的塞头部分的截面积朝向该活塞室的入口端逐渐减小，该活塞室的入口区域具有一种形状，该形状与该活塞的塞头部分的形状互补。

10.如权利要求7至9中任一项所述的装置，其中当该阀门开放时一条至该剂量室的输入流动路径未被关闭、但是与到该工作室的出口相比具有大得多的流动阻力。

11.如权利要求7至10中任一项所述的装置，其中该剂量阀的密封表面坐在该剂量室的一个壁上。

12.如权利要求11所述的装置，其中一个偏置机构、如一个螺旋弹簧将该阀门偏置为在该剂量室的壁上通常是密封的。

13.如权利要求7至12中任一项所述的装置，其中该阀门包括一个跨越部分，该跨越部分具有对该阀门入口居中的一个冲击点，并且该锤被安排为在使用中撞击该跨越部分以便使该阀门离座。

14.如权利要求7至13中任一项所述的装置，其中该锤在多个位置之间是可移动的，这些位置包括：一个第一位置，该第一位置经过一个端口而延伸进入该工作室中以便抵靠在该阀门构件上；以及一个第二位置，该第二位置从与该阀门构件的接触中撤回；并且该锤在该第一位置中与该端口密封、但在该第二位置中并非如此。

15.如权利要求1至14中任一项所述的装置，其中该装置是一个钉枪。