[发明专利]使用多种多孔性材料来控制在多孔性材料的真空的装置和方法有效
申请号: | 200980151106.9 | 申请日: | 2009-10-21 |
公开(公告)号: | CN102257429A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 潘家田;许伟峰;戴瑞克·库恩 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03B27/52 | 分类号: | G03B27/52 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 崔成哲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 多种 多孔 材料 控制 真空 装置 方法 | ||
1.一种浸液限制装置,用于在浸渍式光刻系统中将浸液限制于浸渍区中,该浸渍区包括投影系统与曝光对象之间的间隙,该装置还从该浸渍区中回收该浸液,该装置包括:
限制构件,其包括出口和孔,其中图案影像经由该孔投影于该对象上;
第一液体可渗透构件,其覆盖该出口且具有面向该对象的第一表面和与该第一表面相对的第二表面,该第二表面与第一腔室接触;和
第二液体可渗透构件,其被安置为邻近于该第一液体可渗透构件的第二表面且与第一液体可渗透构件的第二表面隔开,该第二液体可渗透构件具有面向该第一液体可渗透构件的第二表面的第一表面和与该第二液体可渗透构件的第一表面相对的第二表面,该第二液体可渗透构件的第二表面与不同于该第一腔室的第二腔室接触。
2.如权利要求1所述的浸液限制装置,其中该第二液体可渗透构件与该第一液体可渗透构件之间的距离针对该第二液体可渗透构件的第一表面的不同部分而改变。
3.如权利要求2所述的浸液限制装置,其中该第二液体可渗透构件的第一表面为凸起的。
4.如权利要求2所述的浸液限制装置,其中该第二液体可渗透构件相对于该第一液体可渗透构件倾斜。
5.如权利要求1所述的浸液限制装置,其中该第一液体可渗透构件和该第二液体可渗透构件的至少一个为筛网。
6.如权利要求1所述的浸液限制装置,其中该第一液体可渗透构件和该第二液体可渗透构件的至少一个为多孔性构件。
7.如权利要求6所述的浸液限制装置,其中该多孔性构件为海绵。
8.如权利要求6所述的浸液限制装置,其中该多孔性构件为板,该板具有贯穿整个板延伸的孔。
9.如权利要求1所述的浸液限制装置,其中该第一液体可渗透构件的第二表面与该第二液体可渗透构件的第一表面之间的距离为至少约3毫米。
10.如权利要求1所述的浸液限制装置,其中该第一液体可渗透构件与该第二液体可渗透构件在孔的尺寸、厚度和孔隙率中的至少一个方面不同。
11.一种浸液限制装置,用于在浸渍式光刻系统中将浸液限制于浸渍区中,该浸渍区包括投影系统与曝光对象之间的间隙,该装置还从该浸渍区中回收该浸液,该装置包括:
限制构件,其包括出口和孔,其中图案影像经由该孔投影于该对象上;
第一液体可渗透构件,其覆盖该出口且具有面向该对象的第一表面和与该第一表面相对的第二表面,该第二表面与第一腔室接触;和
第二液体可渗透构件,其具有相对面对的第一和第二表面,该第二液体可渗透构件的第一表面与该第一腔室接触,该第二液体可渗透构件的第二表面与不同于该第一腔室的第二腔室接触。
12.如权利要求11所述的浸液限制装置,其中该第一液体可渗透构件被水平地安置,且该第二液体可渗透构件的第一表面被安置于与该第一液体可渗透构件的第二表面垂直隔开的位置处。
13.如权利要求12所述的浸液限制装置,其中该第二液体可渗透构件的第一表面与该第一液体可渗透构件的第二表面之间的垂直距离针对该第二液体可渗透构件的第一表面的不同部分而改变。
14.如权利要求13所述的浸液限制装置,其中该第二液体可渗透构件的第一表面为凸起的。
15.如权利要求13所述的浸液限制装置,其中该第二液体可渗透构件相对于该第一液体可渗透构件倾斜。
16.如权利要求11所述的浸液限制装置,其中该第一液体可渗透构件和该第二液体可渗透构件的至少一个为筛网。
17.如权利要求11所述的浸液限制装置,其中该第一液体可渗透构件和该第二液体可渗透构件的至少一个为多孔性构件。
18.如权利要求17所述的浸液限制装置,其中该多孔性构件为海绵。
19.如权利要求17所述的浸液限制装置,其中该多孔性构件为板,该板具有贯穿整个板延伸的孔。
20.如权利要求11所述的浸液限制装置,其中该第一液体可渗透构件的第二表面与该第二液体可渗透构件的第一表面之间的垂直距离为至少约3毫米。
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