[发明专利]阴图制版可成像元件的叠层无效

专利信息
申请号: 200980151874.4 申请日: 2009-12-07
公开(公告)号: CN102257433A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: K·B·雷;J·L·穆利冈;S·A·贝克利 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: G03F7/09 分类号: G03F7/09;B41C1/10;B41N1/08
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张萍;李炳爱
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 制版 成像 元件
【权利要求书】:

1.叠层,其包含多个阴图制版平版印版前驱体,其中每个前驱体包含其上具有单一可成像层和最外外涂层的含铝衬底,所述最外外涂层具有等于或小于1g/m2的涂布干重,

其中所述衬底的非成像背面不含聚合物涂层并且在纵向和宽度方向均具有大于0.15μm的平均表面粗糙度(Ra),并且其中每个下面的前驱体的可成像面被布置为与其上面的前驱体的含铝衬底直接接触,而在所述前驱体之间不使用衬纸。

2.权利要求1所述的叠层,其包含至少100个阴图制版平版印版前驱体。

3.权利要求1所述的叠层,其中所述最外外涂层的涂布干重等于或小于0.8g/m2

4.权利要求1所述的叠层,其中所述最外外涂层的涂布干重等于或小于0.5g/m2

5.权利要求1所述的叠层,其中基于外涂层干重计,所述最外外涂层包含至少50wt%的量的一种或更多种亲水聚合物。

6.权利要求1所述的叠层,其中基于外涂层干重计,所述最外外涂层包含至少90wt%的量的一种或更多种亲水聚合物。

7.权利要求1所述的叠层,其中所述最外外涂层包含聚乙烯醇作为其主要的聚合物粘合剂。

8.权利要求1所述的叠层,其中所述平版印版前驱体中的每一个对250至450nm的成像辐射敏感。

9.权利要求1所述的叠层,其中所述平版印版前驱体中的每一个对700至1400nm的成像辐射敏感。

10.权利要求1所述的叠层,其中所述平版印版前驱体中的每一个是可在印刷机上显影的。

11.权利要求1所述的叠层,其中所述最外外涂层包含平均直径为1至6μm的颗粒。

12.权利要求11所述的叠层,其中所述最外外涂层颗粒包含二氧化硅。

13.权利要求1所述的叠层,其中所述单一可成像层包含:

可自由基聚合组分,

引发剂组合物,其一经暴露于成像红外辐射就能够产生足以引发可自由基聚合基团的聚合的自由基,

聚合物粘合剂,和

吸收辐射的化合物。

14.权利要求13所述的叠层,其中所述吸收辐射的化合物是吸收红外辐射的染料。

15.权利要求13所述的叠层,其中所述聚合物粘合剂具有与侧挂的聚环氧烷侧链和/或氰基连接的主链,并且任选以离散颗粒的形式存在。

16.权利要求1所述的叠层,其包含20至800个所述前驱体,其中每个前驱体的所述单一可成像层包含:

可自由基聚合组分,

引发剂组合物,其一经暴露于成像红外辐射就能够产生足以引发可自由基聚合基团的聚合的自由基,

聚合物粘合剂,和

吸收红外辐射的染料,和

外涂层,其具有小于0.8g/m2的涂布干重,并且其包含聚乙烯醇。

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