[发明专利]确定特性的方法有效

专利信息
申请号: 200980152725.X 申请日: 2009-12-21
公开(公告)号: CN102265220A 公开(公告)日: 2011-11-30
发明(设计)人: H·麦根斯;J·范德尔斯;A·基尔;J·奎达克尔斯;毛瑞特斯·范德查尔;C·李维斯;H·范拉尔霍温 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 确定 特性 方法
【权利要求书】:

1.一种用于确定衬底上的特征的第一群或者第二群的特性的方法,所述第一群和第二群名义上相同并且在衬底上的单层中形成单个图案,所述图案的周期等于所述第一群的特征与所述第二群的最近的特征之间的距离,所述方法包括步骤:

在所述衬底上形成第一群,所述第一群包括第一目标群;

在所述衬底上形成第二群,所述第二群包括第二目标群,所述第二目标群和所述第一目标群形成组合的目标群;

检测从所述组合的目标群反射的辐射;以及

使用从所述目标反射的辐射计算所述第一群或所述第二群的特性,

其中所述第二目标群具有相对于所述第一目标群的不对称性。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述不对称性包括:所述第一目标群的特征与所述第二目标群目标的最近的特征之间的距离等于所述周期减去偏移。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述不对称性包括:所述第二目标群的特征的临界尺寸与所述第一目标群的临界尺寸不同。

4.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述不对称性包括:所述第一目标群或所述第二目标群去除掉每第n个特征,其中n是大于1的有限数。

5.根据权利要求3所述的方法,其中,所述不对称性还包括:所述第一群目标或所述第二群目标去除掉每第n个特征,其中n是大于1的有限数。

6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述特性是第一或第二群的临界尺寸。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,所述特性是所述第二群的定位误差。

8.根据权利要求1所述的方法,其中,所述特性是第一群或者第二群的侧壁角度。

9.根据权利要求2所述的方法,其中,所述第一群包括第二第一目标群,所述第二群包括第二第二目标群,第二第二目标群相对于第二第一目标群的偏移不同于第一第二目标群相对于第一第一目标群的偏移。

10.根据权利要求3所述的方法,其中,所述第一群包括第二第一目标群,所述第二群包括第二第二目标群,第二第二目标群相对于第二第一目标群的临界尺寸不同于第一第二目标群相对于第一第一目标群的临界尺寸。

11.根据权利要求1所述的方法,其中,所述不对称性包括:所述第二群的高度不同于所述第一群的高度。

12.根据权利要求1所述的方法,其中,所述不对称性包括:所述第二群由与所述第一群的材料不同的材料制成。

13.根据权利要求1所述的方法,其中,形成所述第一群的步骤包括曝光所述衬底的步骤和处理所述衬底的步骤,形成所述第二群的步骤包括曝光所述衬底的第二步骤和处理所述衬底的第二步骤。

14.根据权利要求1所述的方法,其中,形成所述第一群的步骤包括曝光所述衬底的步骤和冻结所述衬底的步骤,形成所述第二群的步骤包括曝光所述衬底的第二步骤和处理所述衬底的第二步骤。

15.根据权利要求1所述的方法,其中,形成所述第一群和形成所述第二群同时进行。

16.一种方法,包括步骤:

在衬底上产生第一群,所述第一群包括第一目标群;

在衬底上产生第二群,所述第二群包括第二目标群;

产生包括第一目标群和第二目标群的组合目标群;

检测从组合目标群反射的辐射;以及

使用分别从第一目标群或第二目标群反射的辐射确定第一群或第二群的特性;

其中第一群和第二群大体上一致并且在衬底上的单一层中形成单一图案,所述单一图案的周期等于第一群的特征与第二群的最近的特征之间的距离,以及

其中第二目标群具有相对于第一目标群的不对称性。

17.根据权利要求16所述的方法,其中,所述不对称性包括:第一目标群的特征与第二目标群的最近的特征之间的距离。

18.根据权利要求16所述的方法,其中,所述不对称性包括:第二目标群的特征的临界尺寸与第一目标群的临界尺寸不同。

19.根据权利要求16所述的方法,其中,所述不对称性包括:所述第一目标群或所述第二目标群去除掉每第n个特征,其中n是大于1的有限数。

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