[发明专利]用于功能面涂覆的方法及装置

权利要求书

1.借助于涂覆源对具有对称齿形的构件的功能面、尤其是齿轮的齿面进行涂覆的方法，该涂覆源向构件方向发射带电粒子形式的涂覆物质并且相对所述构件回转；其特征在于：在涂覆过程期间，所述构件在功能面相对于射束方向缓斜定向的回转区域内通过在构件和涂覆源之间横向于射束方向设置的挡板被遮蔽，挡住涂覆射束。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述构件和所述涂覆源相对彼此围绕构件轴线非均匀地旋转，在功能面相对于射束方向陡直定位的旋转位置中有较长的停留时间。

3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于：针对构件的单侧功能面涂覆，超出所述回转区域的一面边界通过挡板将构件半边完全遮住。

4.如前述权利要求之任一项所述的方法，其特征在于：用离子束或者等离子体束进行涂覆。

5.如前述权利要求之任一项所述的方法，其特征在于：附加地用磁场和/或电场使涂覆射束偏转。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于：用所述磁场和/或电场使涂覆射束聚束。

7.如前述权利要求之任一项所述的方法，用于锥齿轮的齿面涂覆，其特征在于：使锥齿轮在涂覆过程中围绕锥齿轮轴线旋转并且将该锥齿轮轴线朝涂覆源方向倾斜定位。

8.对具有对称齿形的构件的功能面、尤其是齿轮的齿面进行涂覆的装置，其包括向构件方向发射带电粒子形式的涂覆物质并且相对所述构件回转的涂覆源；其特征在于：在构件(1；6)和涂覆源(2)之间横向于射束方向设置有在功能面相对于射束方向缓斜定向的回转区域内将所述构件遮蔽而挡住涂覆射束的挡板(4)。

9.如权利要求8所述的装置，其特征在于：所述构件(1；6)和所述涂覆源(2)彼此沿回转方向非均匀地被驱动，在功能面(3)相对于射束方向陡直定位的旋转位置中有较长的停留时间。

10.如权利要求8或9所述的装置，其特征在于：针对构件(1；6)的单侧功能面涂覆，挡板(4)被加长超出回转区域的一面边界并且由此将构件半边完全遮住。

11.如权利要求8至10之任一项所述的装置，其特征在于：作为所述挡板(4)的附加补充，在涂覆射束的射束行程中设置有磁场和/或电场导向机构(5)。

12.如权利要求11所述的装置，其特征在于：该场导向机构(5)是作为使涂覆射束聚束的离子光学系统构造的。

13.如权利要求8至12之任一项所述的装置，其特征在于：为了实现锥齿轮(6)的齿面涂覆，该锥齿轮被设置为围绕锥齿轮轴线旋转并且以所述锥齿轮轴线朝涂覆源方向倾斜定位。