[发明专利]正电子发射断层摄影和光学组织成像无效

专利信息
申请号: 200980154154.3 申请日: 2009-09-05
公开(公告)号: CN102272627A 公开(公告)日: 2011-12-07
发明(设计)人: S·W·法勒恩;R·A·豪佛;S·马杰斯科;J·麦克森;B·科罗斯;J·伯罗佛特;A·斯德林;A·G·维森伯格 申请(专利权)人: 杰弗逊科研有限责任公司
主分类号: G01T1/166 分类号: G01T1/166
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 王勇
地址: 美国弗*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 正电子 发射 断层 摄影 光学 组织 成像
【权利要求书】:

1.一种小型可移动的成像系统,包括:

A)正电子发射断层摄影成像器;以及

B)光学成像器;

两者被安装在可移动的手推车上,并且包括样品架,用于容放用于双态重叠成像的组织的样品。

2.根据权利要求1所述的小型移动成像系统,其中,所述正电子发射断层摄影成像器包括平面正电子发射断层摄影成像器。

3.根据权利要求1所述的小型移动成像系统,进一步包括:计算机;成像器电子设备,其具有低压和高压电源;在所述计算机上的正电子发射断层摄影数据获取软件;在所述计算机上的数字光学成像软件;在所述计算机上的正电子发射断层摄影图像和数字光学图像融合软件;以及,全部包含在所述可移动手推车上的图像显示软件和硬件。

4.根据权利要求3所述的小型移动成像系统,其中,所述样品架包括:

a)射线可透的皮氏培养皿,其容放用于成像的样品;

b)在所述样品架内部的轨道;以及

c)在所述样品架中的可移动的止动销,其将所述射线可透的皮氏培养皿定位在所述轨道中,以交替地在用于光学数字成像的光学成像器下和在用于成像的成像系统中成像;

其中,在光学成像后,可以去除所述可移动止动销,并且所述样品架被平移到一个位置用于成像的成像系统的重叠。

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