[发明专利]用于不混溶液体的处理的设备和工艺

权利要求书

1.用于对具有不同密度的两种不混溶的熔融液体进行连续处理的设备，其特征在于，所述设备包括：布置在大致竖直的壳体内的至少一条末端开口的螺旋反应通道；用于将具有较高密度的液体连续供应到所述至少一条反应通道的上开口端的装置，和用于将具有较低密度的液体连续供应到所述至少一条螺旋反应通道的下开口端的装置；用于在所述螺旋反应通道的所述下开口端处连续去除所述具有较高密度的液体的装置，和用于从所述螺旋反应通道的所述上开口端去除所述具有较低密度的液体的装置。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括：竖直管，所述竖直管中心布置在所述壳体中并且位于所述至少一条螺旋反应通道的开口芯部内，其中所述管从低于所述壳体的上端一定距离但高于所述至少一条竖直反应通道的上端的地方延伸，并延伸至所述壳体的底部；和水平板，所述水平板在所述管的顶部上布置成覆盖所述壳体的截面，以在所述壳体中位于所述水平板上方的地方形成腔室。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，用于将所述具有较高密度的液体供应至所述至少一条螺旋反应通道的上开口端的所述装置包括：用于将所述液体供应到所述壳体中位于所述水平板上方的腔室的供应口，以及所述水平板中的至少一个开口。

4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，用于将所述具有较高密度的液体供应至所述至少一条螺旋反应通道的上开口端的所述装置包括导管，所述导管从布置在所述壳体外的具有较高密度的熔融液体的源延伸，并延伸到所述壳体中位于所述至少一条螺旋反应通道的上端附近。

5.根据权利要求1和2所述的设备，其特征在于，用于供应所述具有较低密度的液体的所述装置包括竖直供料管，所述竖直供料管从所述壳体上方延伸、通过所述水平板中的开口并向下延伸到所述中心布置的管中，并且开口在所述管的下端附近从所述管穿出。

6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，用于将所述具有较低密度的液体供应至所述至少一条螺旋反应通道的下开口端的所述装置包括导管，所述导管从所述壳体的外侧延伸并延伸到所述至少一条螺旋反应通道的下开口端。

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，用于从所述壳体的底部去除所述具有较高密度的液体的所述装置包括在所述壳体的底部中的开口。

8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，用于从所述壳体的底部去除所述具有较高密度的液体的所述装置包括导管，所述导管从所述壳体的所述底部向上延伸至低于所述螺旋反应通道的上开口端的高度，然后向下延伸通过所述壳体的底部。

9.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，用于去除所述具有较低密度的液体的所述装置包括出口，所述出口在低于所述水平板并且高于所述至少一条螺旋反应通道的上开口端的高度处布置在所述壳体的侧壁中。

10.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，用于去除所述具有较低密度的液体的所述装置包括竖直且末端开口的导管，所述竖直且末端开口的导管从低于所述水平板并且高于所述螺旋反应通道的上开口端的高度处延伸，并向下延伸通过所述壳体的底部。

11.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述螺旋反应通道具有矩形截面。

12.根据权利要求11所述的设备，其特征在于，所述螺旋反应通道的截面为60 mm至120 mm宽和20 mm至40 mm高。

13.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述螺旋反应通道的倾斜度为2o至20o。

14.根据权利要求13所述的设备，其特征在于，所述螺旋反应通道的倾斜度为4o至10o。

15.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，在所述壳体中布置有四条螺旋反应通道。

16.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述两台设备串联连接。

17.根据权利要求16所述的设备，其特征在于，所述两台设备布置成一台设备位于另一台设备的顶部上。

18.根据权利要求16所述的设备，其特征在于，所述两台设备彼此紧邻布置。