[发明专利]用于降低装载锁中的压力的方法和相关设备无效
申请号: | 200980154661.7 | 申请日: | 2009-12-18 |
公开(公告)号: | CN102282663A | 公开(公告)日: | 2011-12-14 |
发明(设计)人: | J·布努阿尔;J-M·福雷 | 申请(专利权)人: | 阿迪森真空产品公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/00;C23C14/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 杨晓光;于静 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 降低 装载 中的 压力 方法 相关 设备 | ||
1.一种用于将设备的装载锁中的压力从大气压降低到低于大气压的传送压力的方法,所述装载锁(2)包括其中以大气压放置至少一个基板(4)的室(3),和具有主泵(14)和涡轮分子泵(15)的气体泵送系统(13),该涡轮分子泵的吸入口(17)经由第一隔离阀(18)连接到所述室(3)并且其排放侧(19)在所述主泵(14)的上游连接到主泵送电路(20),所述气体泵送系统(13)还包括所述涡轮分子泵(15)的旁通电路(21),该旁通电路一方面与位于所述第一隔离阀(18)上游的所述室通信,另一方面与所述主泵送电路(20)通信,所述旁通电路(21)包括第二隔离阀(22),该第二隔离阀包括能被激活的限流装置,并且所述主泵送电路(20)包括位于所述涡轮分子泵(15)的排放侧(19)与所述旁通电路(21)之间的第三隔离阀(23),所述方法包括:
-第一步骤(101),其中,所述第一和第三隔离阀(18、23)被关闭,而其限流装置被激活的所述第二隔离阀(22)被打开,从而通过其泵送速度受限的所述主泵(14)的所述旁通电路(21)来执行从大气压至第一特征阈值的第一主泵送,工作状态下的所述涡轮分子泵(15)的所述吸入口(17)与所述室(3)隔离开并且该涡轮分子泵(15)的所述排放侧(19)与所述主泵(14)隔离开,
-所述第一步骤(101)之后的第二步骤(102),其中,所述第二隔离阀(22)的限流装置被禁用从而执行比所述第一步骤中更快的至第二特征阈值的第二主泵送,同时维持涡轮分子泵送的隔离,和
-所述第二步骤(102)之后的第三步骤(103),其中,所述第一和第三隔离阀(18、23)被打开而所述第二隔离阀(22)被关闭,从而借助于位于所述主泵送上游的所述涡轮分子泵送来执行次级泵送,其中所述室(3)与所述主泵(14)隔离开。
2.根据权利要求1所述的用于降低压力的方法,包括所述第三步骤(103)之后的第四步骤(104),其中,所述第一隔离阀(18)被关闭而其限流装置已经被禁用的所述第二隔离阀(22)被打开以重新建立主泵送,其中当达到第三特征阈值时隔离所述涡轮分子泵。
3.根据权利要求2所述的用于降低压力的方法,其中,在所述第四步骤(104)期间注入惰性气体。
4.根据前述任一权利要求所述的用于降低压力的方法,其中,所述第一和/或第二和/或第三特征阈值是预定的时间间隔。
5.根据前述任一权利要求所述的用于降低压力的方法,其中,所述第一和/或第二和/或第三特征阈值是预定的压力级别。
6.根据前述任一权利要求所述的结合权利要求2考虑的用于降低压力的方法,其特征在于,当所述装载锁(2)接收了请求卸载所述基板(4)的信号时重新开始所述第二主泵送。
7.一种用于实现根据前述任一权利要求所述的用于降低压力的方法的设备,包括装载锁(2),所述装载锁(2)包括用于将至少一个基板(4)的环境压力从大气压降低到低于大气压的传送压力的室(3)和至少一个处理室(5),该至少一个处理室与所述装载锁(3)连通以将所述基板(4)传送至处于所述传送压力下的该处理室(5)中,所述装载锁包括具有主泵(14)和涡轮分子泵(15)的气体泵送系统(13),该涡轮分子泵的吸入口(17)经由第一隔离阀(18)连接到所述室(3)并且其排放侧(19)在所述主泵(14)的上游连接到主泵送电路(20),所述气体泵送系统(13)还包括所述涡轮分子泵(15)的旁通电路(21),该旁通电路一方面与位于所述第一隔离阀(18)上游的所述室通信,另一方面与所述主泵送电路(20)通信,所述旁通电路(21)包括第二隔离阀(22),该第二隔离阀包括能被激活的限流装置,并且所述主泵送电路(20)包括位于所述涡轮分子泵(15)的排放侧(19)与所述旁通电路(21)之间的第三隔离阀(23),所述气体泵送系统(13)还包括用于控制所述隔离阀(18、22、23)的装置。
8.根据权利要求7所述的设备,其中,所述第二隔离阀(22)包括具有第一电导的第一主阀和第二限制阀,该第二限制阀从所述主阀中分支出来并且具有低于所述第一电导的第二电导。
9.根据权利要求7或8所述的设备,包括处理单元(24),该处理单元用于按照所述室(3)中的气体的特征参数的传感器(25)的至少一个输出信号(26)来控制所述阀(18、22、23)。
10.根据权利要求7至9中任一项所述的设备,其特征在于,所述第三阀(23)被并入所述涡轮分子泵(15)的外壳中从而与所述涡轮分子泵(15)的排放孔配合。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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