[发明专利]具有加热的泻流孔的真空沉积源

权利要求书

1.一种真空沉积源，所述真空沉积源包括：

罩，所述罩被配置为定位在真空沉积系统的真空室内，所述罩包括一个或多个能够相互分离的部分；

阀，所述阀至少部分地定位在所述罩内，所述阀具有输入侧和输出侧；

坩埚，所述坩埚包括封板，其中所述封板与所述阀的所述输入侧连通；

喷嘴，所述喷嘴包括至少一个出口，所述喷嘴至少部分地定位在所述罩内，并且与所述阀的所述输出侧连通；

加热设备，所述加热设备至少部分地包围所述阀；和

阀致动器，所述阀致动器操作地连接到所述阀，并且配置为在真空中操作。

2.根据权利要求1所述的沉积源，所述沉积源包括定位在所述坩埚和所述封板之间的石墨密封垫片。

3.根据权利要求2所述的沉积源，其特征在于，所述石墨密封垫片包括单层材料。

4.根据权利要求1所述的沉积源，其特征在于，所述封板包括一个或多个翅片，所述一个或多个翅片被配置为控制所述加热设备和所述坩埚之间的传热。

5.根据权利要求4所述的沉积源，其特征在于，所述翅片包括一个或多个同心环。

6.根据权利要求1所述的沉积源，其特征在于，所述加热设备包括管状加热盘管。

7.根据权利要求1所述的沉积源，其特征在于，所述阀致动器包括音圈。

8.根据权利要求1所述的沉积源，所述沉积源包括至少部分地包围所述罩的壳体。

9.根据权利要求1所述的沉积源，所述沉积源包括至少一个液体冷却回路。

10.根据权利要求1所述的沉积源，其特征在于，所述喷嘴包括多个输出孔和不同于所述多个输出孔的流量监测喷口，其中所述流量监测喷口发出与所述多个输出孔的输出流量成比例的流量。

11.根据权利要求1所述的沉积源，其特征在于，所述喷嘴包括：具有内部空间的第一罩；设置在所述第一罩的内部空间的至少一部分内的传导管；和设置在所述第一罩的内部空间的至少一部分内的加热元件。

12.根据权利要求11所述的沉积源，其特征在于，所述喷嘴包括具有内部空间的第二罩，其中所述第一罩设置在所述第二罩的内部空间的至少一部分内。

13.根据权利要求12所述的沉积源，所述沉积源包括设置在所述第二罩的内部空间的至少一部分内的液体冷却回路。

14.一种根据权利要求1所述的沉积源与真空沉积系统的组合。

15.根据权利要求14所述的组合，其特征在于，所述真空沉积系统包括用于制造有机发光设备的至少一部分的系统。

16.一种真空沉积系统，所述真空沉积系统包括：

真空室；

罩，所述罩被配置为定位在真空沉积系统的真空室内，所述罩包括一个或多个能够相互分离的部分；阀，所述阀至少部分地定位在所述罩内，该阀具有输入侧和输出侧；坩埚，所述坩埚包括封板，其中所述封板与所述阀的所述输入侧连通；喷嘴，所述喷嘴包括至少一个出口，所述喷嘴至少部分地定位在所述罩中并与所述阀的所述输出侧连通；加热设备，所述加热设备至少部分地包围所述阀；和，阀致动器，所述阀致动器操作地连接到所述阀，并配置为在真空中操作；

沉积材料，所述沉积材料设置在所述坩锅中；和

基底，所述基底定位在所述真空室内，并相对于真空沉积源的喷嘴定位。

17.根据权利要求16所述的真空沉积系统，其特征在于，所述沉积材料包括颗粒、薄片、粉末和液体坚实度中的一个或多个。

18.根据权利要求16所述的真空沉积系统，其特征在于，所述沉积材料包括一种或多种无机成分。

19.根据权利要求18所述的真空沉积系统，其特征在于，所述沉积材料包括三(8-羟基喹啉)铝。

20.根据权利要求16所述的真空沉积系统，其特征在于，所述基底包括有机发光设备的至少一部分。

21.根据权利要求16所述的真空沉积系统，其特征在于，所述真空沉积源被配置为相对于基底运动。