[发明专利]官能化非织造制品

权利要求书

1.一种制品，其包括：

a)非织造基底和聚合物，其中所述非织造基底的平均纤维尺寸为0.7μm至15μm、空隙体积为50％至95％，所述聚合物包含接枝到所述非织造基底表面的阳离子型氨基烷基(甲基)丙烯酰基单体单元。

2.根据权利要求1所述的制品，其中所述非织造基底在接枝前的拉伸强度为至少4.0牛顿。

3.根据权利要求1所述的制品，其中所述非织造基底的表面积为15m²至50m²/平方米非织造基底。

4.根据权利要求1所述的制品，其中所述非织造基底根据ASTMF 316-03 5的平均孔径为1-40μm。

5.根据权利要求1所述的制品，其中所述非织造基底的紧密度为小于20％。

6.根据权利要求1所述的制品，其中所述非织造基底为纺丝成网法、射流喷网法、水刺法、湿法成网法、静电纺纱法或熔喷法的非织造基底。

7.根据权利要求1所述的制品，其中所述接枝聚合物的重量为所述非织造基底的重量的0.5倍至5倍。

8.根据权利要求1所述的制品，其中所述非织造基底由亲水性热塑性聚合物制备。

9.根据权利要求1所述的制品，其中所述接枝共聚物包含以下物质的聚合的单体单元：

a)80重量％至98重量％的接枝氨基烷基(甲基)丙烯酰基单体；

b)2重量％至20重量％的接枝聚(环氧烷)单体；

b)0至10重量％的第二亲水单体。

10.根据权利要求9所述的制品，其中所述接枝共聚物由以下化学式表示：

-(M^NR4+)_w-(M^PEG)_x-(M^c)_y

其中

-(M^NR4+)_w-表示具有w个聚合的单体单元的所述接枝氨基烷基(甲基)丙烯酰基单体的残基，其中w为至少2；

-(M^PEG)_x表示具有x个聚合的单体单元的所述聚合的聚(环氧烷)单体，其中x可以为0；

-(M^c)_y表示所述聚合的亲水单体“c)”，其具有y个聚合的单体单元，其中y可以为0。

11.根据权利要求10所述的制品，其中所述共聚物为无规共聚物或嵌段共聚物。

12.根据权利要求1所述的制品，其中所述接枝刷状聚合物为未交联的。

13.根据权利要求1所述的制品，其中所述非织造基底的基重为10g/m²至400g/m²。

14.根据权利要求1所述的制品，其中所述非织造基底为尼龙非织造基底，所述尼龙非织造基底的平均有效纤维直径为1μm或更小。

15.一种制备根据权利要求1-14中的任一项所述的制品的方法，该方法包括：

a.提供非织造基底；

b.在惰性气氛中使所述非织造基底暴露于电离辐射下；以及

c.使所述暴露的基底吸收包含接枝氨基烷基(甲基)丙烯酰基单体的溶液，以将所述单体接枝聚合到所述非织造基底的所述表面。

16.根据权利要求15所述的方法，其中所述吸收溶液还包含第二亲水性接枝单体。

17.根据权利要求16所述的方法，其中所述吸收溶液包含以下单体：

a)80重量％至98重量％的接枝氨基烷基(甲基)丙烯酰基单体；

b)2重量％至20重量％的接枝聚(环氧烷)单体；

c)0至10重量％的第二亲水单体。

18.根据权利要求15所述的方法，其中所述吸收溶液包含水性/水溶性有机溶剂溶液，其中所述有机溶剂不含叔氢原子。

19.根据权利要求15所述的方法，其中所述非织造基底暴露于1kGys至200kGys的电离辐射下。

20.根据权利要求15所述的方法，其中所述吸收溶液不含聚烯键式不饱和单体。