[发明专利]RFID芯片的光学控制在审

专利信息
申请号: 200980157092.1 申请日: 2009-12-07
公开(公告)号: CN102326168A 公开(公告)日: 2012-01-18
发明(设计)人: I·J·福斯特 申请(专利权)人: 艾利丹尼森公司
主分类号: G06K7/10 分类号: G06K7/10;G01N21/64;H05B33/00;G06K19/073;G06K19/077;C09K11/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 赵蓉民;张全信
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: rfid 芯片 光学 控制
【权利要求书】:

1.射频识别(RFID)系统,其包含:

RFID芯片,和

布置在所述RFID芯片附近的光活性材料,其中所述光活性材料以光频辐射的形式为所述RFID芯片提供能量,其影响所述RFID芯片对读出器信号的灵敏度。

2.根据权利要求1所述的系统,其中所述光活性材料增强所述RFID芯片的灵敏度。

3.根据权利要求1所述的系统,其中所述光活性材料抑制所述RFID芯片的灵敏度。

4.根据权利要求1所述的系统,其中:

所述光活性材料布置在所述RFID芯片的背面上。

5.根据权利要求1所述的系统,其中:

所述光活性材料是荧光材料,其响应曝光发射光能。

6.根据权利要求1所述的系统,其中:

所述光活性材料是化学发光材料,其由于化学反应发射光能。

7.根据权利要求1所述的系统,其中:

所述光活性材料是响应与所述材料接触的流体的存在而发射光能的材料。

8.根据权利要求1所述的系统,其中:

所述光活性材料是具有受环境因素影响的可变光吸收的材料;和

在没有外部光学照射的情况下读出的和有外部光学照射的情况下读出的RFID芯片性能之间的差异表示所述系统对所述环境因素的感测值。

9.根据权利要求1所述的系统,其中:

所述RFID芯片具有被抛光的背面;和

所述光活性材料被涂敷在所述RFID芯片的抛光的背面上。

10.根据权利要求1所述的系统,还包含载片,其中:

所述RFID芯片被包括在所述载片的湿嵌体中,所述湿嵌体包含粘合剂;

所述嵌体粘合剂包含所述光活性材料;和

所述嵌体粘合剂包括特定的有机化学品以吸收在抑制RFID芯片对被读出的响应方面所述RFID芯片灵敏的波长的光。

11.射频识别(RFID)系统,其包含:

RFID芯片,其中所述RFID芯片的背面被抛光;和

红外(IR)光,其被配置为照射该抛光的背面以根据所述IR光的强度增强或者抑制所述RFID芯片的读取速度。

12.根据权利要求11所述的RFID系统,其中,为增强所述RFID芯片的响应,所述IR光从在低于预定电流水平运行的LED以如此波长辐射,该波长从没有IR照射的读取速度提高所述RFID芯片的读取速度。

13.根据权利要求12所述的RFID系统,其中所述LED在低于大约10mA的电流水平和大约950nm的波长下运行。

14.根据权利要求11所述的RFID系统,其中亮-暗模式用于控制照射所述RFID芯片的所述IR光的强度。

15.根据权利要求11所述的系统,其中扫描光学模式发光器用于发现预先选择的RFID标签。

16.用于控制RFID设备运行的方法,其包括:

通过射频(RF)读出器场照射多个RFID设备,所述读出器场低于所述RFID设备的运行阈值;和

光学照射所述多个RFID设备中所选的一个,以便所选的RFID设备变为运行的并与所述读出器通讯。

17.根据权利要求16所述的方法,其中:

光学照射包括提供恒定水平的照射,其为所选的RFID设备供应第一部分能量;和

发送所述RF读出器场包括发送调制的RF读出器场,其为所选的RFID设备提供指令和供应第二部分能量。

18.根据权利要求16所述的方法,其中:

光学照射包括提供恒定水平的照射,其为所选的RFID设备供应能量;和

发送所述RF读出器场包括发送调制的RF读出器场,其为所选的RFID设备提供指令。

19.根据权利要求16所述的方法,其中:

光学照射包括提供调制的光学照射,其为所选的RFID设备提供指令和供应第一部分能量;和

发送所述RF读出器场包括发送恒定RF读出器场,其为所选的RFID设备供应第二部分能量。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于艾利丹尼森公司,未经艾利丹尼森公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980157092.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top