[发明专利]用于聚焦电磁束的包括声光偏转器的聚焦系统

权利要求书

1.三维随机访问应用中用于聚焦电磁束的聚焦系统，所述系统包括：第一对声光偏转器(10)，用于在X-Z平面中聚焦电磁束、以及第二对声光偏转器(20)，用于在Y-Z平面中聚焦电磁束，所述Y-Z平面与所述X-Z平面基本正交，其特征在于：所述第二对声光偏转器(20)布置在所述第一对声光偏转器(10)的声光偏转器(12、12’)之间，从而所述系统的第一和第四声光偏转器(12、12’)属于所述第一对声光偏转器(10)，并且所述系统的第二和第三声光偏转器(22、22’)属于所述第二对声光偏转器(20)。

2.如权利要求1所述的聚焦系统，其中，所述声光偏转器(12、22、12’、22’)包括各向异性晶体，并且所述偏转器被使用在切变声模式中。

3.如权利要求1或2所述的聚焦系统，其中，各对(10、20)的所述声光偏转器(12、22、12’、22’)彼此基本平行布置。

4.如权利要求1至3中的任一项所述的聚焦系统，其中，在所述第一和第二声光偏转器(12、22)之间以及/或者在第二和第三声光偏转器(22、22’)之间以及/或者在第三和第四声光偏转器(22’、12’)之间布置偏振器。

5.如权利要求1至4中的任一项所述的聚焦系统，其中，在所述第一和第二声光偏转器(12、22)之间以及/或者在第二和第三声光偏转器(22、22’)之间以及/或者在第三和第四声光偏转器(22’、12’)之间布置远心中继系统(60)。

6.如权利要求1至5中的任一项所述的聚焦系统，其中，所述声光偏转器(12、22、12’、22’)之间的任何光学元件保持电磁束的透射部分的偏振。

7.如权利要求1至6中的任一项所述的聚焦系统，其中，所述AOD(22、22’、12’)之一的光学孔径被增大，并且具有增大的光学孔径的AOD(22、22’、12’)与其上游的AOD(12、22、22’)被具有放大率的远心中继系统(60)分开，所述放大率针对所述两个AOD(12、22；22、22’；22’、12’)的孔径差而被调整。