[发明专利]半导体集成电路有效

专利信息
申请号: 200980157798.8 申请日: 2009-11-06
公开(公告)号: CN102342023A 公开(公告)日: 2012-02-01
发明(设计)人: 山上由展 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H03K19/0175 分类号: H03K19/0175;H01L21/822;H01L21/8238;H01L21/8244;H01L27/04;H01L27/092;H01L27/10;H01L27/11
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 半导体 集成电路
【权利要求书】:

1.一种半导体集成电路,其特征在于,

具备在第1电源和第2电源之间串联连接的P型MOS晶体管和两个以上的N型MOS晶体管,

输入端子连接于所述P型MOS晶体管的栅极端子和所述两个以上的N型MOS晶体管的栅极端子,

具有与输出端子连接的1个以上的电容元件,其中所述输出端子是,所述P型MOS晶体管、和所述两个以上的N型MOS晶体管中的与所述P型MOS晶体管连接的N型MOS晶体管之间的接点,

所述P型MOS晶体管的驱动能力大于所述串联连接了两个以上的N型MOS晶体管的驱动能力。

2.根据权利要求1所述的半导体集成电路,其特征在于,

在设所述串联连接了两个以上的多个N型MOS晶体管的总驱动能力为1的情况下,所述P型MOS晶体管的驱动能力为2以上。

3.根据权利要求1所述的半导体集成电路,其特征在于,

在所述各P型以及N型MOS晶体管的沟道长度全部相等的情况下,

所述P型MOS晶体管的沟道宽度构成为将所述N型MOS晶体管的沟道宽度除以所述多个N型MOS晶体管的串联级数而得到的值的4倍以上的沟道宽度。

4.根据权利要求1所述的半导体集成电路,其特征在于,

在所述各P型以及N型MOS晶体管的沟道宽度全部相等的情况下,

所述P型MOS晶体管的沟道长度构成为对所述N型MOS晶体管的沟道长度乘以所述多个N型MOS晶体管的串联级数而得到的值的1/4以下的沟道长度。

5.根据权利要求1~4中任意一项所述的半导体集成电路,其特征在于,

还构成为能够分别控制所述P型MOS晶体管或所述各N型MOS晶体管的基板电位。

6.根据权利要求1~5中任意一项所述的半导体集成电路,其特征在于,

还具有1个以上的P型MOS晶体管,其栅极端子连接于所述输入端子,该1个以上的P型MOS晶体管连接于所述串联连接的多个N型MOS晶体管彼此的连接节点和所述第1电源之间。

7.根据权利要求1~5中任意一项所述的半导体集成电路,其特征在于,

还具有1个以上的P型MOS晶体管,其栅极端子连接于所述输入端子,该1个以上的P型MOS晶体管连接于所述串联连接的多个N型MOS晶体管彼此的连接节点和所述输出端子之间。

8.根据权利要求1~7中任意一项所述的半导体集成电路,其特征在于,

所述电容元件至少由P型MOS晶体管或N型MOS晶体管中的任一者构成,

在由所述P型MOS晶体管构成的电容元件和由所述N型MOS晶体管构成的电容元件共存的情况下,由所述P型MOS晶体管构成的电容元件的电容值,小于由所述N型MOS晶体管构成的电容元件的电容值。

9.根据权利要求1~7中任意一项所述的半导体集成电路,其特征在于,

所述电容元件至少由P型MOS晶体管或N型MOS晶体管中的任一者构成,

在由所述P型MOS晶体管构成的电容元件和由所述N型MOS晶体管构成的电容元件共存的情况下,由所述P型MOS晶体管构成的电容元件的沟道长度和沟道宽度的积,小于由所述N型MOS晶体管构成的电容元件的沟道长度和沟道宽度的积。

10.一种半导体集成电路,其特征在于,

具备在第1电源和第2电源之间串联连接的两个以上的P型MOS晶体管以及N型MOS晶体管,

输入端子连接于所述N型MOS晶体管的栅极端子和所述两个以上的P型MOS晶体管的栅极端子,

具有与输出端子连接的1个以上的电容元件,其中所述输出端子是,所述两个以上的P型MOS晶体管中的与所述N型MOS晶体管连接的P型MOS晶体管、和所述N型MOS晶体管之间的接点,

所述N型MOS晶体管的驱动能力大于所述串联连接了两个以上的P型MOS晶体管的驱动能力。

11.根据权利要求10所述的半导体集成电路,其特征在于,

在设所述串联连接了两个以上的多个P型MOS晶体管的总驱动能力为1的情况下,所述N型MOS晶体管的驱动能力为2以上。

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