[发明专利]液晶显示装置、液晶显示装置的制造方法、光聚合物膜形成用组合物和液晶层形成用组合物

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示装置、光聚合物膜形成用组合物、液晶层形成用组合物和液晶显示装置的制造方法。详细来说涉及：为了提高液晶的取向限制力在取向膜上形成有光聚合物膜的液晶显示装置；能够适合地形成光聚合物膜的液晶显示装置的制造方法；适合于光聚合物膜的形成的聚合物膜形成用组合物；和适合于光聚合物膜的形成的液晶层形成用组合物。

背景技术

液晶显示装置，是通过控制具有双折射性的液晶分子的取向而控制光的透过/遮断(显示的开/关)的显示面板。作为使液晶分子取向的技术，例如，使用在涂敷取向膜材料后，利用辊等形成一定的槽，形成取向膜的摩擦法等。

另外，也有如下方法：如多晶畴垂直取向(MVA：Multi-domain Vertical Alignment)模式那样，不进行取向处理，而使用在共用电极上设置的向倾斜方向延伸的由电介质构成的堤坝状的突起物、在像素电极设置的与突起物并行的槽缝等的取向控制用结构物，控制液晶分子的取向(例如，参照专利文献1)。

在MVA模式的液晶显示装置中，在未施加电压的状态下液晶分子相对于基板面垂直取向，在像素电极和共用电极之间施加电压时，液晶分子以对应于电压的角度倾斜取向。这时，通过在像素电极设置的槽缝、堤坝状的突起物，在1个像素内形成液晶分子的倾倒方向互相不同的多个区域(畴)。通过像这样在1个像素内形成液晶分子的倾倒方向互相不同的多个区域，能够得到良好的显示特性。

但是，形成有槽缝和突起物的区域，光透过率容易变低。使这些配置简单化，加宽堤坝状的突起物彼此的间隔，或者像素电极槽缝彼此之间的间隔，则能够提高光透过率。但是，堤坝状的突起物彼此的间隔，或槽缝彼此的间隙非常宽的话，在液晶分子的倾斜的传播方面需要花费时间，向液晶层施加用于显示所必要的电压时的液晶分子的响应变得非常慢。

作为改善该响应慢的方法，导入如下技术(以下、称作“PSA(Polymer Sustained Alignment：聚合物稳定配向)技术”)：向基板间注入含有能够聚合的单体的液晶材料，在施加电压的状态下使单体聚合，在取向膜上形成保存有液晶分子的倾倒方向的聚合物膜(例如，参照专利文献2)。

另外，在专利文献2中，作为解决残影现象的手段公开的方法是：作为在PSA技术中使用的能够聚合的单体，使用具有：一个以上的环结构或缩环结构；和与该环结构或缩环结构直接结合的2个官能基的单体。上述残影现象是在液晶显示装置中连续地长时间显示同样的图像时，即使改变显示图像，之前的图像也被残留而能够被看见的现象。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2006-189610号公报

专利文献2：日本特开2003-307720号公报

发明内容

发明要解决的课题

本发明者们，在对PSA技术中使用的单体进行研讨的过程中发现：例如，使用如下述化学式(1)所示，

【化学式1】

(式中，R¹和R²表示：相同或不同的丙烯酰胺基、甲基丙烯酰胺基、丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、乙烯基、乙烯氧基或环氧基)，核心部具有萘基的单体后，或例如使用如下述化学式(2)所示，

【化学式2】

(式中，R¹和R²表示：相同或不同的丙烯酰胺基、甲基丙烯酰胺基、丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、乙烯基、乙烯氧基或环氧基)，核心部具有联苯基的单体时，在完成后的液晶显示装置中有看见残影的情况。

本发明鉴于上述现状而完成，其目的是提供：残影少的液晶显示装置、残影少的液晶显示装置的制造方法、和在PSA的聚合工序中反应性高的光聚合物膜形成用的组合物和液晶层形成用的组合物。

课题解决的手段

本发明者们，在研讨各种关于在PSA技术中使用上述的单体后发现的液晶显示装置产生残影的原因的过程中，发现：关于如上述化学式(1)表示的化合物那样的核心部具有萘基的单体，因为在萘基部分电子容易局域化，所以虽然能够得到一定的高聚合反应性，但是一方的聚合性官能基开始聚合反应时，另一方的聚合性官能基没完全反应，其结果是，导致未反应的聚合性官能基残存。并且发现：在完成后的液晶显示装置的一般的使用状态下，由于来自用于显示的背光源的光使未反应的聚合性官能基慢慢地开始聚合反应，其结果，导致使通过PSA技术形成的聚合物膜的预倾角产生变化，在显示中产生残影。