[发明专利]透光性基体的可见光透过量增加剂和使用了该增加剂的高透光性基体的制造方法无效
| 申请号： | 200980159297.3 | 申请日： | 2009-05-01 |
| 公开（公告）号： | CN102422183A | 公开（公告）日： | 2012-04-18 |
| 发明（设计）人： | 绪方四郎;松井义光 | 申请（专利权）人： | 萨斯堤那普尔科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透光 基体 可见光 透过 增加 使用 制造 方法 | ||
1.一种透光性基体的可见光透过量增加剂，所述可见光透过量增加剂含有有机硅化合物和无机硅化合物。
2.如权利要求1所述的可见光透过量增加剂，其中，进一步含有氧化钛。
3.如权利要求2所述的可见光透过量增加剂，其中，所述氧化钛为金属掺杂氧化钛。
4.如权利要求2或3所述的可见光透过量增加剂，其中，所述氧化钛为过氧化钛。
5.如权利要求1～4中任一项所述的可见光透过量增加剂，其中，进一步含有热分解性有机化合物。
6.如权利要求5所述的可见光透过量增加剂，其中，所述热分解性有机化合物为糖或糖醇。
7.如权利要求6所述的可见光透过量增加剂，其中，所述糖为选自由单糖类和二糖类组成的组中的至少一种。
8.如权利要求5所述的可见光透过量增加剂，其中，所述热分解性有机化合物为水溶性有机高分子。
9.如权利要求1～8中任一项所述的可见光透过量增加剂，其中，进一步含有选自由下述(1)～(3)组成的组中的一种或两种以上正电荷物质：(1)阳离子；(2)具有正电荷的导电体或电介体；以及(3)具有正电荷的导电体与电介体或半导体的复合体。
10.如权利要求1～8中任一项所述的可见光透过量增加剂，其中，进一步含有选自由下述(4)～(7)组成的组中的一种或两种以上负电荷物质：(4)阴离子；(5)具有负电荷的导电体或电介体；(6)具有负电荷的导电体与电介体或半导体的复合体；(7)具有光催化功能的物质。
11.如权利要求1～8中任一项所述的可见光透过量增加剂，其中，进一步含有正电荷物质和负电荷物质，
所述正电荷物质为选自由下述(1)～(3)组成的组中的一种或两种以上正电荷物质：(1)阳离子；(2)具有正电荷的导电体或电介体；以及(3)具有正电荷的导电体与电介体或半导体的复合体，
所述负电荷物质为选自由下述(4)～(7)组成的组中一种或两种以上负电荷物质：(4)阴离子；(5)具有负电荷的导电体或电介体；(6)具有负电荷的导电体与电介体或半导体的复合体；(7)具有光催化功能的物质。
12.一种高透光性基体的制造方法，其特征在于，将权利要求1～11中任一项所述的可见光透过量增加剂涂布在透光性基体上，进行加热处理或非加热处理。
13.如权利要求12所述的高透光性基体的制造方法，其中，所述基体的至少一部分是用树脂、金属或玻璃制造的。
14.如权利要求12或13所述的高透光性基体的制造方法，其中，在400℃以上的温度下进行所述加热处理。
15.一种高透光性基体，其是通过权利要求12～14中任一项所述的制造方法得到的。
16.一种光学部件或光学元件，其具备权利要求15所述的高透光性基体。
17.一种增加透光性基体的可见光透过量的方法，其特征在于，在透光性基体表面形成含有有机硅化合物和无机硅化合物的层。
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