[发明专利]微光刻投射曝光设备以及测量有关包含在其中的光学表面的参数的方法

权利要求书

1.一种微光刻投射曝光设备，包括光学表面(46；M6)以及测量装置(90)，所述测量装置(90)被构造为在所述光学表面(46；M6)上的多个分开的区域(M_ij)处测量与所述光学表面有关的参数，所述测量装置(90)包括：

a)照明单元(92)，其被构造为朝向所述光学表面上的所述区域(M_ij)指引单独测量光束(94)，其中每个测量光束(94)照明与所述测量光束(94)关联的区域(M_ij)的至少一部分，以及不与所述照明光束(94)关联的相邻区域(M_ij)的至少一部分，

b)检测器单元(96)，其被构造为在每个测量光束(94)与所述光学表面(46；M6)相互作用之后，测量每个测量光束(94)的特性，

c)评估单元(102)，其被构造为：基于所述检测器单元(96)为

i)与所选择的区域(M_S)关联的测量光束(94)、以及

ii)与所选择的区域(M_S)相邻的区域(M_ij)关联的至少一个测量光束(94)

所确定的特性，确定所选择的区域(M_S)的表面相关参数。

2.如权利要求1所述的设备，其中关于所述光学表面(46；M6)且在多个区域处测量的参数界定所述光学表面的形状。

3.如权利要求1或2所述的设备，包括表面变形单元(130)，其被构造为使所述光学表面(46；M6)变形。

4.如前述任一项权利要求所述的设备，其中所述光学表面(46；M6)被构造为至少反射所述测量光束的重要部分。

5.如权利要求1所述的设备，其中所述光学表面由反射镜(M_ij)阵列(46)形成，所述反射镜(M_ij)被适配为以响应于控制信号而可变化的反射角度将入射光线反射，并且其中每个反射镜表面关联至少一个区域。

6.如权利要求5所述的设备，其中所述反射镜(M_ij)阵列(46)布置在所述设备的照明系统(12)中，并且其中所述反射镜(M_ij)朝向所述照明系统(12)的系统光瞳表面(70)指引投射光。

7.如权利要求5或6所述的设备，其中每个测量光束(94)在所关联的区域(M_ij)上产生最大强度的点(120)，并且其中所述最大强度的点(120)相对于所述反射镜(M_ij)的中心略微且不规则地位移。

8.如前述任一项权利要求所述的设备，其中由所述测量光束(94)在所述光学表面上照明的多个光斑至少部分重叠。

9.如前述任一项权利要求所述的设备，其中所述评估单元(102)被构造为基于所述检测器单元(96)为所述照明单元(92)产生的所有测量光束(94)确定的特性，确定所选择的区域(M_S)的表面相关参数。

10.如权利要求9所述的设备，其中所选择的区域k的表面相关参数是x_k，其由以下线性方程系统确定：

yk=ΣlAklxl]]>

其中y_k是所述检测器单元为被指引向区域k的测量光束所测量的特性，以及A_kl是实系数。

11.如权利要求10所述的设备，其中所述系数A_kl通过校准确定。